从去年10月开始，老美对我国的芯片禁令呈现出了快速升级的态势，这让许多国内芯片企业人心惶惶，也正是从那刻开始，国内大量芯片企业退出了芯片赛道。根本原因就在老美要联手日本、荷兰，通过制裁手段控制光刻机的流向，并且将管控范围提升到了14nm，这不仅是对中国芯片技术的封锁，更是对全球科技产业秩序的重塑。

或许迫于压力，或许正中下怀，日本方面宣布对23种芯片设备实施出口管制，甚至将管控范围扩大到了45nm，还追加了芯片制造过程中所用到的必要材料，于2023年7月23日生效。

作为光刻机主要出口国的荷兰，近期也宣布对一些先进光刻机型号实施出口管制，规定将于9月1日生效，光刻机巨头ASML如果想要将先进芯片制造设备出口到大陆市场，必须获得相关许可。ASML在其官网也正式声明，该公司未来出口的先进浸润式DUV光刻机系统，也就是TWINSCAN NXT:2000i及后续浸润式系统时，需要荷兰的出口许可证。

不过ASML的官网显示，ASML目前在售的主流浸润式DUV光刻机共有三款，分别为TWINSCAN NXT:1980Di、TWINSCAN NXT:2000i、TWINSCAN NXT:2050i。TWINSCAN NXT:2000i后续遭到了禁售，但之前的1980Di并不在管控范围内。

重点在于，ASML官网上有关于TWINSCAN NXT:1980Di的介绍，其分辨率大于等于38nm（支持7nm），38nm是仅一次曝光的分辨率，但多次曝光后可以得到7nm工艺芯片。而且ASML在今年3月份就已经提到TWINSCAN NXT:1980Di这款DUV光刻机不影响出货。

言外之意，国内晶圆厂可以引入1980Di型号，也可以通过多次曝光实现7nm芯片的生产，只是步骤更复杂、成本更高、良率相对会低一点。但关于此事，国内专家却清醒地发现，背后的目的并不单纯，甚至比彻底断供还严重！为什么这样说呢？

首先，这款1980Di型号的DUV光刻机，虽然能生产7nm工艺芯片，但由于成本过高，放在7nm市场竞争力必然不如台积电、三星。况且老美还解除了台积电、三星大陆建厂的限制，与台积电、三星同台竞争，大陆晶圆厂7nm芯片必然处于劣势。所以对于大陆晶圆厂来说，7nm甚至14nm或许只需满足部分特殊行业的需求即可，大幅扩产28nm等成熟芯片或许才是这种光刻机的主要作用。

然而上海微电子的28nm光刻机早已通过技术测试和认证，并且还在与国内激光企业联合解决光源国产化的问题，相信用不了多久国产28nm DUV光刻机即将实现量产，而光刻机的使用周期可以高达10年甚至20年，ASML用成熟产品占据国内自研产品的空间与市场，大概率会影响中企后续的持续投资与创新能力。我们不排除这就是老美遏制中国芯片产业计划的一部分，而该计划甚至比彻底断供还要严重，更像“温水煮青蛙”。

其次，我国早已制定了2025年70%芯片自给率的目标，我国又拥有全球最大的芯片市场，规模达到了全球的二分之一甚至更多，如果荷兰、ASML完全关闭与中国合作的大门，重赏之下必有勇夫，肥沃的土壤足以让任何企业茁壮成长，所以彻底断供反而能倒逼国内企业加速突破。

对于我们而言，引入ASML的1980Di光刻机的同时，也要通过行政手段扶持甚至保护本土芯片企业，避免西方技术对大陆市场的低价倾销与再次垄断；更重要的是中企应强强联合加速推动中高端芯片制造产业链的国产替代。同意的请点赞，同时转发给更多志同道合的朋友！