28纳米光刻机的成功研发，是中国科技史上的一座里程碑。这不仅意味着中国在光刻机技术上实现了重大突破，从技术依赖走向了技术自给，更标志着中国在这一关键领域从过去的追赶者，跃升为与国际先进水平并驾齐驱的参与者。这一成就的取得，不仅填补了国内在高端光刻机领域的空白，更为中国半导体产业的自主可控发展提供了强大的技术保障，极大地提升了中国在全球半导体产业链中的地位。

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  28纳米光刻机的研发，是中国科技工作者智慧和汗水的结晶，它见证了中国科技力量的崛起。这一突破性进展，不仅打破了国外的技术封锁，打破了外界对中国科技实力的固有认知，更向世界展示了中国科技创新的无限潜力和坚定决心。它证明了中国有能力在科技的最前沿领域与世界顶级科技强国一争高下，也预示着中国科技未来无限的可能性。

  从追赶到并跑，这不仅仅是一个技术层面的跨越，更是一个国家科技自信的提升，是国家创新能力的体现。这背后，是中国政府对科技创新的持续投入，是科研人员对科技梦想的执着追求，是整个社会对科技发展的热情支持。28纳米光刻机的成功，是中国科技发展历程中的一次重要飞跃，它开启了中国科技自主发展的新篇章，也为中国在全球科技竞争中赢得了更多的主动权。