光刻胶作为微电子技术中实现微细图形加工的关键材料，其研究开发与应用近年来因大规模及超大规模集成电路的进步而得到了显著推动。
光刻机作为芯片制造中的核心设备，其工作原理类似于照片冲印，通过光线的曝光将掩模版上的精细图案转移到硅片上，这一过程是决定制造工艺优劣的关键环节。
近期，由于部分化学原材料价格上涨以及芯片自主可控需求的增强，芯片半导体材料市场出现了回暖的趋势。
本期内容对光刻胶、光刻机及芯片领域的公司进行了详尽梳理，并精选出在光刻机、光刻胶和芯片三个领域均有业务关系的10家公司，以下为具体分析。
第一家：芯碁微装
主营：微纳直写光刻技术为核心的直接成像及直写光刻设备研发、制造、销售及维保。
产品：PCB、泛半导体直接成像设备及系统，其他激光直接成像设备。
光刻机：制版光刻机制程主流在100-400nm。
芯片概念：为泛半导体及PCB客户提供先进直写光刻设备及解决方案。
第二家：凯美特气
主营：石油化工尾气回收利用的环保企业。
光刻胶：生产高品质芯片所需超高纯气体和光刻气。
光刻机：子公司光刻气产品获ASML子公司Cymer认证。
芯片概念：未来能实现电子特种稀有气体的“中国造”。
第三家：华特气体
主营：特种气体、普通工业气体及辅助设备的生产和销售。
光刻胶：4种光刻气体为国内唯一供应商，获ASML认证。
光刻机：光刻气系列产品国内首家。
芯片概念：4款光刻气体获ASML和GIGAPHOTON认证。
第四家：新莱应材
主营：洁净及高纯、超高纯应用材料的研发、生产与销售。
光刻胶：AdvanTorr和NanoPure品牌产品可应用于光刻机。
光刻机：客户包含光刻机设备制造商。
芯片概念：高精度半导体元件应用于芯片制造工艺。
第五家：国林科技
主营：大型臭氧发生器及臭氧系统集成设备。
光刻胶：装置用于光刻胶清洗过程。
光刻机：子公司臭氧设备用于光刻胶去除等工艺。
芯片概念：掌握半导体行业臭氧清洗设备关键技术。
第六家：茂莱光学
主营：精密光学器件、高端光学镜头及系统的研发、设计、制造及销售。
光刻胶：产品用于光刻机工件台位移测量系统。
光刻机：为光刻机光学系统提供关键器件。
芯片概念：棱镜和平片已应用于国产光刻机。
第七家：晶方科技
主营：影像传感芯片WLCSP量产服务的专业封测服务商。
光刻胶：并购的荷兰Anteryon公司拥有混合镜头等技术。
光刻机：下属荷兰公司服务国际领先光刻机厂商。
芯片概念：主要产品为芯片封装、测试、设计等。
第八家：久日新材
主营：光引发剂的研发、生产和销售。
光刻胶：阳离子及光敏剂项目进展中。
光刻机：子公司有光刻机溶剂及光敏剂产能。
芯片概念：建设大型光刻胶生产项目。
第九家：赛微电子
主营：MEMS芯片工艺开发、晶圆制造及半导体设备。
光刻胶、光刻机：为全球光刻机巨头提供MEMS部件服务。
芯片概念：主要产品为MEMS工艺开发、晶圆制造、半导体设备。
第十家：飞凯材料
主营：屏幕显示材料、半导体材料及紫外固化材料的研究、生产和销售。
光刻胶、光刻机：有两类光刻胶产品，半导体领域已有少量销售。
芯片概念：MUF材料产品包括芯片生产所需材料。
这10家公司在半导体生产环节扮演重要角色，在光刻机和光刻胶领域有广泛技术积累和一定市场地位。随着芯片自主可控的推进，这些公司或将迎来新发展机遇，值得长期关注。
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