文|小彭的灿烂笔记

编辑|小彭的灿烂笔记

声明：本文陈述内容参考的“官方信息来源”，均赘述在文章末尾，感谢支持。

【前言】

在半导体制造领域，有一种堪称“黄金般”的材料光刻胶，虽然体积微小，却是芯片生产不可或缺的核心要素，甚至决定了芯片精度与质量的高度。

你或许很难想象，这一瓶胶水的价格高达数万元，而生产它的技术和市场却被一个国家牢牢掌控着日本。

全球光刻胶市场，日本企业占据了超过96.7%的市场份额，尤其在高端领域几乎实现了“垄断”，成品可以卖，但配方绝不会外流。

而光刻胶研发又需要庞大的技术积累和资金投入，这让世界许多国家不得不依赖日本进口，其中，中国的依赖程度尤为严重。

曾经，韩国在2019年遭遇了日本光刻胶的“断供”，导致半导体生产几乎停滞，四年时间里疲于应对，这让全世界都意识到，掌握核心技术的重要性。

那么，如果同样的情况发生在中国，我们又将如何应对？难道真的会被“卡脖子”？

【日本光刻胶的垄断与技术壁垒】

日本在光刻胶市场的主导地位，源于其多年的技术积累和产业布局，东京应化、JSR、住友化学、富士胶片等巨头公司，几乎垄断了全球高端光刻胶市场。

这种垄断不仅体现在市场份额上，更深植于技术壁垒，光刻胶的研发并非易事，它需要极高的精度和长期的实验。

尤其是EUV光刻胶的开发，更是难上加难这不仅需要巨额的资金投入，还需要与昂贵的EUV光刻机进行协同开发。

如此高的门槛，让许多国家望而却步，更令人担忧的是，日本企业只出售成品，核心配方则严加保密，这使得其他国家在技术上难以突破，对日本的依赖日益加深。

中国的光刻胶自给率不足10%，在高端市场更是几乎空白，如果日本选择断供，中国的芯片产业将面临巨大的挑战。

但事情的发展并非一成不变，中国的科研人员正夜以继日地努力，试图打破这一垄断局面，他们的努力，或许将改变这一现状。

日本的垄断地位，给全球半导体产业带来了巨大的压力，尤其是在韩国“断供事件”发生后，各国才更加意识到自主研发的重要性。

2019年韩国遭遇了一场意想不到的危机，日本政府突然宣布对韩国实施半导体材料出口管制，其中光刻胶、氟化氢等关键材料赫然在列。

这一招可谓直击韩国的软肋，光刻胶是芯片制造的核心材料，没有它芯片生产线就无法继续运转，对半导体巨头三星和SK海力士来说，这无异于釜底抽薪。

当时全球半导体市场竞争正如火如荼，韩国作为半导体产业的重要一环，芯片出口量巨大，全球市场份额也十分可观。

而光刻胶的生产几乎被日本完全掌控，出口管制一出，韩国的半导体产能急剧下降，生产线运作吃紧，芯片良率出现了明显下滑，企业损失巨大，整个产业链一度陷入停滞。

事实上韩国并非没有尝试，面对日本的“断供”，韩国政府和企业迅速启动应急预案，试图从其他国家寻求替代供应。

不过光刻胶这种东西，并不是一时半会儿能生产出来的，全球能够生产高端光刻胶的国家屈指可数，其他供应商的产品要么技术达不到标准，要么生产规模不足以满足需求。

韩国的尝试最终只能以失败告终，这场危机整整持续了四年，直到2023年日本才在多重压力下恢复了对韩国的出口供应。

但在这四年里，韩国付出了沉重的代价，芯片产量的下降让韩国半导体产业在全球市场上的竞争力大打折扣。

韩国的经历，给了中国一记警钟，虽然中国的半导体产业起步较晚，但近年来发展迅猛，市场需求巨大。

只可惜光刻胶的自给率不足10%，尤其在高端领域依然严重依赖进口，韩国的前车之鉴提醒我们，如果光刻胶供应链被外部势力卡住脖子，中国的半导体产业也会面临类似的困境。

不过危机也是转机，从韩国的经历可以看出，技术封锁越严苛，被封锁的一方就越能激发自主研发的决心。

韩国在遭遇“断供”后，也开始加大对半导体材料的研发投入，试图逐步摆脱对日本的依赖，中国早已未雨绸缪。

面对类似的风险，中国政府与企业已着手布局光刻胶的自主研发，在一系列政策扶持和科研攻关下，国产光刻胶的技术突破正逐渐显现。

韩国的教训告诉我们，任何技术封锁都不会持续太久，只要掌握核心技术，未来的主动权就能牢牢握在自己手中。

面对这样的情况，我们国家是如何应对的呢？

【国产光刻胶的突破与新希望】

长久以来，光刻胶的技术被日本牢牢掌控，就像一座难以翻越的高山，许多国家望而却步，不是因为没有想法，而是因为光刻胶的研发实在太烧钱、太烧时间。

毕竟研发一瓶高端光刻胶，需要的不仅是原料和设备，更需要无数次试验和数据积累，稍有偏差，整个项目可能前功尽弃。

而EUV光刻胶的研发门槛更高，除了要投入巨资购买EUV光刻机，还需要与芯片制造企业进行长时间的磨合，整个过程少则十几年，多则几十年。

日本的光刻胶巨头们之所以敢“只卖成品、不卖配方”，底气就在于他们几十年如一日的技术积累，以及全球市场对他们的高度依赖，这种“卡脖子”的局面，正在被逐渐撼动。

2024年10月，武汉太紫薇光电科技公司发布了一则振奋人心的消息，他们成功研发出了一款名为“T150A”的光刻胶。

这款光刻胶分辨率达到120纳米，可以应用于28纳米制程的芯片光刻，28纳米制程听起来并不算顶尖，但不要小瞧它，这一技术已足以覆盖目前80%的市场需求。

例如在家电、工业设备、汽车电子等领域，28纳米芯片依然是主流，甚至性能过剩，就连我们手中的智能手机，也并非所有应用都需要最先进的芯片。

武汉太紫薇的突破，意味着中国在光刻胶领域已经拥有了自己的“安全底线”，更重要的是，这不仅仅是一次单纯的技术突破，更是整个国产光刻胶产业的起点。

过去，中国在光刻胶领域的技术空白主要体现在高端产品上，而中低端产品也因为设备、技术、原料的短缺难以规模化生产。

如今，随着“T150A”的问世，国内上下游企业开始加速协同，国产光刻胶的生产规模正在稳步扩大。

当然，以目前的情况来看，中国与日本之间还存在一定差距，那么在未来的时间中，中国应该如何去改变呢？

【光刻胶产业的未来与全球竞争】

核心技术掌握在少数国家手中，垄断者可以通过技术封锁、贸易管制等手段，随时对他国产生巨大影响，韩国的断供事件、全球对日本光刻胶的高度依赖。

这些都让人看清了一个道理，在全球化的时代，技术自主的重要性不言而喻，但技术垄断并不是不可打破的。

几十年前，日本也曾被欧美的科技巨头卡住脖子，而正是那段被迫追赶的时期，日本通过坚持自主创新，逐渐在半导体材料领域站稳脚跟。

如今中国正走在一条类似的道路上，只不过这条路更加艰难，因为技术壁垒更高，竞争也更为激烈。

但中国有自己的优势，一方面中国拥有世界上最完整的半导体产业链，从设计、制造到封装测试，每一个环节都在稳步发展。

这为光刻胶的研发提供了强大的市场支撑，另一方面中国科研人员的攻坚精神和产业协同的能力，也正在加速国产光刻胶的落地应用。

例如除了武汉太紫薇的突破外，国内其他企业也在不断发力，在芯片封装材料、晶圆抛光技术等领域，中国已经取得了显著的进展。

虽然距离全面替代进口还有一段距离，但这种“多点开花”的局面，让我们看到了国产半导体材料崛起的希望。

同时光刻胶的未来不仅仅是解决供应链安全的问题，更关系到全球科技产业的竞争格局，一旦中国在光刻胶领域实现突破。

就意味着在半导体制造的核心环节拥有了更大的话语权，这不仅有利于保障自身产业链的安全，也将对全球科技产业的平衡产生深远影响。

全球市场不会永远属于某一个国家，也没有谁能永远占据垄断地位，日本的领先，是建立在技术积累的基础上。

而中国的追赶，是建立在时代赋予的机遇之上，自主创新的步伐不会停歇，中国的光刻胶产业正在向着更高的目标前进。

【结语】

中国科研人员用坚定的信念和艰苦的努力，为国家科技发展注入新的希望，未来国产光刻胶将走得更远，也将让中国在全球科技竞争中赢得更多话语权。

向那些奋斗在科研一线的研发人员致敬，因为他们的努力，让我们看到了一个更加自立、自强的明天。

参考资料：

中国电子报在2024年5月16日关于《日本光刻胶市场地位:是否真的坚不可摧？》的报道

科创板日报在2023年12月11日关于《日本光刻胶大厂计划提价 增幅约10%-20%》的报道

湖南日报在2024年10月17日关于《重大突破！光谷攻克芯片光刻胶关键技术》的报道