重磅!国产65nm光刻机正式发布,网友:它到底能实现多少nm?

讲科技头头是道 2024-09-19 22:52:43

最近,工信部发布的《首台重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》中,两款国产光刻机的信息引起了广泛关注。特别是那款氟化氩光刻机,更是成为了大家热议的焦点。网上关于它能做多少纳米(nm)芯片的讨论热闹非凡,有人说8nm,有人说14nm,还有人认为最多只能到28nm。

那么问题来了,这款国产光刻机到底能生产出多少NM的芯片?首先,我们要明白光刻机是干啥的。简单来说,光刻机就是用光在硅片上“画”出芯片电路的机器。光的波长越短,画出来的电路就越细,芯片也就越先进。而这款氟化氩光刻机,用的光波长是193nm,属于深紫外(DUV)光刻机里的高手。它的分辨率能达到65nm,套刻精度更是厉害,小于等于8nm。这意味着,在理论上,它能画出非常精细的电路,接近8nm的水平。

但别急,理论归理论,实际操作起来可没那么简单。就像你有个高级画笔,但不一定能画出大师级的画一样。这款光刻机虽然能“画”出8nm的电路,但真正要量产8nm芯片,良品率会非常低,成本也会高到吓人。所以,它并不适合直接用来生产8nm芯片。

那14nm呢?虽然通过一些技术手段,比如多次曝光,它有可能做出14nm的芯片,但效率和成本都是大问题。相比之下,中芯国际用更高级的光刻机已经能稳定量产14nm芯片了。

其实,这款光刻机最适合的还是28nm工艺。为什么这么说?因为28nm技术成熟,良品率高,生产成本也相对较低。更重要的是,28nm芯片在我国市场需求巨大,广泛应用于智能家电、汽车电子、物联网等领域。如果这款光刻机能成功量产28nm芯片,那对我国半导体行业来说,绝对是个大利好。

总的来说,这款65nm氟化氩光刻机的出现,是我国光刻机技术的一大进步。虽然它离顶尖水平还有距离,但已经能够满足国内不少工业需求了。未来,随着技术的不断进步,相信国产光刻机一定能在更高端的领域发光发热,为我国半导体行业的自主发展贡献力量。

所以,别小看这款光刻机,它可是咱们迈向芯片自主可控之路上的一块重要基石。认同的朋友们,点个赞,转发一下,让更多人了解这个好消息吧!

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