西方最忧心现实发生!中国掌握半导体技术,世界格局将变?

香于非非 2024-08-10 18:07:07
导读

中微公司在自主可控技术方面取得了非常明显的进步,尹志尧表示,公司的主要零部件自主可控率已经达到了90%以上,预计到今年第三季度末就能够达到100%的可控率。而且中微公司已经成功研发出了全球首台5nm等离子刻蚀机,这一消息在整个半导体行业引起了非常大的关注。中微公司似乎正在向着国际市场进军取得更大的成功。

中微公司的技术进步

从中微公司董事长尹志尧的表态来看,中微公司在自主可控技术方面已经取得了非常明显的进步,尹志尧在接受采访时表示,中微公司目前的主要零部件自主可控率已经达到了90%以上,而且预计到今年第三季度末就能够达到100%的可控率,这样的技术进步对于中微公司目前来说已经是非常好的消息了。

因为中微公司主要生产的就是半导体刻蚀机,该设备在芯片制造的过程中起到至关重要的作用,它可以通过物理或者化学的方法,将芯片上不需要的部分进行去除,从而形成最终的电路结构,一台好的刻蚀机对于芯片制造来说意义重大,尤其是在今天这个半导体行业越发火热的当下。

虽然中微公司在国内属于知名度非常高的芯片制造设备生产商,但是要在国际市场上立足还是相当困难的,因为这个行业涉及到的技术门槛非常高,而且国外竞争对手很多,他们往往能够聚集大量顶尖人才,以便更好地进行自主研发。

在这样的背景之下,国内企业要想突围出去往往都是非常艰难的,但是中微公司似乎正在用自己的实力证明,国产刻蚀机同样具备竞争的优势。

国产刻蚀机技术进步

根据尹志尧博士的介绍,中微公司于2004年由他本人创办,在短短三年时间里就推出了第一代国产刻蚀机,而且还非常顺利地将产品卖给了台积电,这也可以说是中微公司创立以来取得的第一个里程碑式的进步了。

2007年推出的刻蚀机虽然在国际市场上还有一定的差距,但是技术上已经堪可与国外顶尖企业过招了,而且在国内市场倒是一枝独秀,在过去的十几年时间里,中微公司一直是国内刻蚀机生产商中的佼佼者。

2017年,中微科技里程碑式地推出了世界首例5纳米精度等离子刻蚀设备,这一突破性成就瞬间在半导体产业界掀起了轩然大波,吸引了全球范围内的广泛瞩目与热议。因为5nm工艺已经达到了目前半导体制造能力的顶峰,在当时很多人看来,中微公司研发成功简直就是东亚技术发展的一个奇迹。

从5nm工艺成功研发出来的刻蚀机也取得了非常好的市场表现,目前中微公司已经实现了3nm刻蚀机的量产,并且产品不仅仅卖给了台积电,中芯国际等国内知名芯片生产企业也成为了中微公司的客户。

目前全球范围内部署相关设备约3700余台,其中中微公司占据了绝大多数,市场份额方面目前也是遥遥领先,中微公司似乎正在向着国际市场进军取得更大的成功。

随着制程节点的不断缩小,各种制造设备在半导体行业中的使用频率也越来越高,刻蚀机作为其中之一当然也是受到越来越多关注的重点对象。

刻蚀机对设备精度要求很高

从表面上来看,各个刻蚀机生产商推出来的产品虽然有细微差别,但是总体的功能和使用效果差不多,在实际使用过程中基本上不会出现因为设备本身问题而影响芯片制造的情况。

但是只有真正深入到制造工艺当中去,才会发现各个产品之间其实存在着非常明显的差距,而这些差距往往决定着最终产品能否达到使用要求。

比如说刻蚀机,目前市面上主要有湿法和干法两种类型,其中干法刻蚀机因为采用的是真空环境工作模式,在去除多余材料方面表现更加出色。

尤其是对于那些有复杂图案结构要求的芯片来说,湿法刻蚀机往往无法做到位;而且干法刻蚀机还有一个优势就是精度更高。

这一点对于芯片制造来说至关重要,在制造工艺当中往往需要规定更为严格的规则来保证产品质量。

如果刻蚀机本身就存在着不规范的情况,那么必然会导致规则执行偏差,最终影响芯片质量和稳定性。

从宏观角度来看,干法刻蚀机已经成为影响半导体行业发展趋势的关键因素之一。

而从微观角度来看,在各种制造设备中干法刻蚀机也是必不可少的一环。

尤其随着制程节点的不断升级,在未来五年甚至十年时光里,只会有更多顶尖企业选择干法刻蚀机,以确保自己在激烈市场竞争中依然能够保持先进。

中微公司研发生产的干法刻蚀机已经达到了非常惊人的精度水平,几乎可以用肉眼看不见误差来形容。

尹志尧在采访中提到,“皮米级”的精度已经可以完美地满足超高密度集成电路芯片制造的要求了。

实际上从整个制造工艺来看,刻蚀机对于芯片上电路结构纵深、形状等方面都有影响。

虽然大部分人可能更熟悉光刻机这个设备,在光刻工艺中起到了决定性作用。

但是从功能和重要程度上来说,大家更多时候会拿刻蚀机和光刻机进行比较。

因为无论是光刻机还是刻蚀机,在整个芯片制造工艺当中都属于核心设备,其重要性无法言喻。

一般来说顶级客户和合作伙伴都会提前要求升级换代设备,以确保自己始终站在技术发展前沿。

结语

中微公司的技术进步值得肯定,特别是在自主可控技术和5nm等离子刻蚀机方面取得的成就。在国际市场上竞争激烈的情况下,中微公司似乎正在用自己的实力证明国产刻蚀机同样具备竞争的优势。对于半导体行业的发展,技术的不断创新和进步是至关重要的,中微公司正是在这方面做出了突出的贡献。你对国产刻蚀机技术进步有何看法?快来留言分享你的观点

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香于非非

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