从2019年开始，美国的封杀大棒开始对我国企业肆意挥舞，如果单单只是这样，似乎影响也不会很大，毕竟虽然美国掌握了很多的半导体技术，但是真正在半导体芯片领域有话语权的主要还是台湾、韩国和日本，其中台湾自然不用多说，台湾的台积电、联发科一个是代工龙头，一个是可以和高通抗衡的芯片设计巨头。

韩国方面则是有三星电子，拥有全流程的芯片设计制造能力，至于日本方面，曾经的日本也是当之无愧的半导体行业龙头，日本出产的光刻机更是曾经全球第一，要比现如今的ASML更受欢迎，只不过，伴随着美国的打压，日本的半导体业务出现了衰败，错失了最好的发展时间。

但是，即便是这样瘦死的骆驼比马大，日本在半导体芯片领域依旧掌握着话语权，诸如在半导体用光刻胶方面，日本垄断了全球87%的市场份额，而光刻机方面，尼康和佳能的DUV光刻机也是占据着一定的市场份额。

不过，由于美国的要求，日本和韩国都开始在半导体供应链方面对我国企业展开限制，而日本方面的限制主要是光刻胶，都知道芯片制造环节中最为核心的是光刻机，但是如果没有光刻胶，即便是有再先进的光刻机也没有什么用，而光刻胶就相当于照相机的胶圈，通过光刻机在晶圆上成像，然后再交给蚀刻机雕刻，最终变成电路芯片。

所以说，日本限制光刻胶的出口，对于我国的影响还是很大的，但是就在刚刚过去的5月19日，根据媒体方面传来的消息显示，中国在光刻胶领域完成了新的突破，南大光电已经成功开发出可用于90nm到28nm芯片生产的DUV ArF光刻胶，该产品能够满足进口产品的替代需求。

此消息一出，估计日本彻底慌了，因为这也就意味着接下来哪怕是放开了限制，我国也不会再从日本购买光刻胶，而我国是全球最大的芯片消费国，失去我国的市场对于日本将是致命打击。

虽然目前突破的还只是90nm到28nm，但是对于我国来说却是整个芯片制造产业链的闭环突破，因为目前我国正在攻克的就是28nm，国产光刻机距离28nm也只是临门一脚，所以28nm对于我国的现实意义更大。

至于更高精度的光刻胶，我们可以慢慢来，毕竟我们需要的是配合整个国产芯片产业链的发展节奏，同样的伴随着我国在光刻胶领域的突破，估计拜登也是目瞪口呆的，毕竟这才过去了几年，封锁也才几年，我国几乎把整条半导体制造产业链打通了。

而面对着我国在芯片领域的又一突破，外媒方面也是传来评论表示，下一个抢占的就是美国的技术高地，而这一切都需要等待EUV光刻机的突破。

其实就目前而言，我国在EUV光刻机的核心零部件上已经完成了突破，诸如EUV光源，现如今无论是清华大学、哈工大还是长春光机都有了自己的解决方案，双工作台方面也有了选择方向，但是在物镜方面却是比较困难的，毕竟所需要的物镜的品质现阶段似乎还要依赖蔡司这样的老牌巨头。

不过，万事开头难，没有什么东西是一蹴而就的，我们的突破速度已经很快了，接下来只需要去迎接EUV光刻机的问世就可以了，而在EUV光刻机发展的同时，周遭芯片产业链的相关技术的突破同样重要，因为只有产业链同步突破，届时我们才可以真正盘活整个国产高阶芯片产业链。

而这一天相信不会太远。