光刻机是生产芯片的核心设备，也是半导体行业技术含量最高的设备。很可惜，由于我国半导体设备发展进程较晚，因此我国的光刻机技术比较落后，很多光刻机都需要从国外进口。

而美日荷是全球最大半导体设备出口大国，为此，美方拉着日荷组成三方联盟，对半导体设备进行管制，限制我国获得先进的光刻机设备。不过最近我国半导体设备发展迅猛，，基本上打破了三方联盟的垄断。对此，有外媒表示:光刻机限制尘埃落定了。

几年前，为了限制我国获得先进的EUV设备，美方对荷兰施压，限制ASML向中企出售EUV光刻机。为此，ASML违背和中芯国际的协定，停止了EUV光刻机的出售。

而在2022年的时候，美日荷正式组成了三方联盟，对半导体设备进行出口管制。日方在2023年7月份制定半导体设备出口管制，把半导体设备的出口范围限制在45nm以下。

同年9月，荷方也制定了半导体设备出口管制，对2000i型及2000i型以后的浸润式DUV光刻系统进行出口限制。而到了2024年9月份，荷方再次升级了出口限制范围，把1970i型和1980i型两款老旧光刻机纳入出口管制目录。

可以说美日荷三方已经垄断了我国获得先进的EUV光刻设备和比较先进的DUV浸润式光刻设备渠道，这对于我国半导体产业发展极为不利。

而在最近，我国光刻机行业接连传来好消息。据ASML公布最新财报显示，2024年第二财季，ASML一共卖出了47.61亿欧元，这里面的销售额有49%来自于我国市场，合计185亿元，是ASML光刻机最大的客户。

实际上在2024年第一财季，我国市场也是ASML光刻机最大的营收来源地，为ASML带来49%的营收，合计154亿元。

换言之2024年上半年，我国从ASML那里采购了接近339亿元的光刻机，是采购ASML光刻机最大的市场。

看到这里，想必大家也明白了ASML对待光刻机出口管制的态度了。那就是ASML并不愿意执行光刻机出口管制，而是更注重企业订单。为此，ASML多次向美方、荷方申请出口许可。这才能正式向中企出售光刻设备。

除此之外，工信部在9月初也公布了两款光刻设备。其中又一款氟化氩光刻机，这款光刻机的分辨率为65nm，照明波长达到193nm，套刻≤8nm，是一款理论上可以生产8nm芯片的光刻机。

当然了，如果按照套刻比例1:3计算，这款光刻机能生产28nm芯片就非常不错，毕竟套刻≤8nm，距离生产8nm芯片有相当大一段距离。

客观的讲，咱们的这款65nm氟化氩光刻机和ASML光刻机还有很大的差距，哪怕是ASML十几年前的1970i型光刻机也比这款65nm氟化氩光刻机要先进不少。

不过这并不是重点，重点是这款氟化氩光刻机是DUV光刻机，这表明我国已经成为继荷兰、日本之外的第三个可以生产DUV光刻机的国家。

我们可以骄傲的说，在光刻机的研制上，我国已经达到世界主流水平，是光刻机市场不可或缺的中坚力量。

写在最后

虽然这几年我国受制于三方联盟的半导体设备出口管制，但不管是从ASML采购的光刻机数量，还是我国光刻机工艺的突破，我们已经取得了辉煌的成果。正因为如此，有外媒才表示:光刻机限制已经尘埃落定了，三方联盟已经无计可施了。