日本以及荷兰比美国“更进一步”。按报道，日本以及荷兰配合美国，这次要断供制造14nm及其以下芯片制造所需的设备，包括光刻机和其他工艺设备，而之前的2020年，美国断供的是10nm及其以下芯片制造所需的其他工艺设备，日本和荷兰当时都没有跟随，所以，中芯国际还能在去年实现大规模量产14nm芯片这个突破。

国产芯片“或”退至90nm？应该不会。如果荷兰和日本在今年及其以后再进一步，针对成熟工艺，断供28nm光刻机，那中芯国际要新购的话，就只得等上海微电子突破的28nm光刻机，需要等几年，无需等多年。在此期间，中芯国际还有前些年购进的荷兰和日本28nm及其以下光刻机等芯片设备可用，不仅能制造28nm的芯片，还能制造14nm的，只是28nm的扩产将受到一些影响。这就是说，不至于退回到只能有国产90nm光刻机可用的地步，国产的90nm光刻机倒是不能造出28nm芯片，荷兰ASML的也仅能通过曝光两次造出良品率低的45nm芯片。

国产替代目前仅能接力国产65nm芯片。有人说国内已经拥有65nm产业链，是用“纯”国产设备建起来的。不错，国产90nm光刻机在去年突破了，如果现在已经被国内芯片制造企业实际使用了，就可以说国内已经基本建起了65nm及其以上芯片的产业链，因为国产90nm光刻机可以造出65nm芯片，尽管良品率很低。这也就是说，日本和荷兰断供14nm及其以下芯片设备以后，国产替代还不能接力；其实，如前所述，要是日本和荷兰断供了28nm的芯片设备，国产替代也不能接力。