在芯片制造的前沿领域，一项重大进展正在引发全球关注。日本半导体公司Rapidus近日宣布，其斥资引进的首台ASML TWINSCAN NXE:3800E极紫外（EUV）光刻机已经成功在北海道北部的IIM-1工厂交付并启动安装。这一里程碑事件标志着Rapidus成为日本首家企业，正式步入EUV光刻技术的先进生产行列，对全球半导体产业的发展产生了深远影响。

值得一提的是，由于华为Mate70新机的曝光，导致华为Mate60价格持续走低。据报道，华为Mate60在“拍易得官网”最新一期的活动中成交价仅137元，创下了该机上市以来的价格新低。

ASML的TWINSCAN NXE:3800E是目前市场上最先进的EUV光刻系统之一，它在技术上达到了0.33 (Low) NA的分辨率，为Rapidus实现2nm工艺制程提供了关键支撑。这款光刻机的引入，不仅提升了生产效率，其晶圆吞吐量相较于前一代NXE:3600D提高了37.5%，还意味着Rapidus在追求更小、更高效的芯片制造技术上迈出了实质性的一步。

作为全球半导体制造技术的领导者，ASML的EUV光刻机因其在2nm及以下先进制程中的核心作用，一直备受业界瞩目。Rapidus的这次引进，不仅体现了其对尖端科技的坚定投入，也彰显了其在全球半导体市场竞争中的决心和雄心。

Rapidus的IIM-1工厂正积极进行设施升级，以适应2nm代半导体的生产需求。除了EUV曝光设备，公司还计划引入一系列先进的半导体制造设备和运输系统，以确保其生产线的高效运行。预计到2025年4月，试验线将在IIM-1启动，同时，Rapidus也将启动新的半导体代工服务RUMS（快速统一制造服务），这将进一步推动日本乃至全球半导体产业的创新与发展。

Rapidus的这一举措，无疑为全球半导体市场注入了新的活力，同时也将对全球半导体供应链的格局产生深远影响。这家日本半导体公司的进步，将促使全球同行们在技术创新和生产效率上持续提升，共同推动半导体技术的持续进步，为未来的科技发展奠定坚实基础。