日本的先进半导体代工企业Rapidus即将迎来他们的第一台ASML EUV光刻机，这可是日本全国首台EUV光刻设备啊！这台光刻机预计在2024年12月中旬抵达北海道的新千岁机场，真是让人期待得不得了。

距离芯片制造商 Rapidus 位于北海道的新工厂的尖端半导体原型生产线投入使用不到六个月，其给当地带来的经济效益（可能超过 18 万亿日元（1200 亿美元））已开始显现，尽管实现大规模生产的目标仍存在障碍。

工厂建设地点位于新千岁机场附近，新千岁机场是日本本岛最北端的主要机场，也是通往其最大城市札幌的门户。

截至 9 月中旬，工程进度已超过 50%。早已显露的建筑骨架现在正被外墙覆盖。

10 月 3 日，用于芯片组装和其他后端工艺的原型生产线开始动工。精工爱普生将在工厂附近的工厂内设立一个拥有约 9,000 平方米洁净室的研发中心。Rapidus 高级管理执行官 Yasumitsu Orii 表示：“我们将打造全球最先进的后端工艺试验线。”

支持建立本地芯片生态系统的行业组织北海道新兴产业集群局估计，到2036年，Rapidus 进入北海道产生的经济连锁反应将累计高达 18.8 万亿日元。其成果才刚刚开始显现。

EUV光刻机作为半导体制造中的核心设备，其技术难度和制造成本都非常高。与传统的光刻技术相比，EUV光刻技术能够实现更高的分辨率和更精细的图案制作，从而满足先进制程对于芯片尺寸和性能的要求。这对于提升半导体产品的性能和可靠性至关重要，也是Rapidus在半导体代工领域保持竞争力的关键所在。

为了迎接这台光刻机的到来，新千岁机场也进行了精心的准备。由于EUV光刻机对精度要求极高且不耐振动，机场方面对路面进行了重新铺设，以确保光刻机在运输过程中的安全和稳定。此外，ASML还在千岁市建设了客户服务中心，以支持该系统的接收和后续维护工作。

Rapidus对于这台EUV光刻机的引入充满期待。根据公司的规划，Rapidus将于2025年4月启动先进制程原型线，该产线将拥有包括EUV光刻机在内的共计200余台设备。这将为Rapidus在半导体代工领域提供强大的技术支持和生产能力，助力公司在全球市场中占据更加重要的位置。

除了Rapidus之外，日本未来还有至少两家晶圆厂计划引入先进的EUV光刻机。其中，美光广岛工厂预计于2025年内导入EUV光刻设备，为2026年的量产做准备；台积电控股子公司JASM预定的2027年投产的第二晶圆厂也包含6nm产线，同样需要EUV机台。这进一步表明了EUV光刻技术在半导体制造领域的重要性和广泛应用前景。

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