长期以来，光刻机作为芯片制造的核心设备，其技术壁垒极高，全球市场主要被荷兰ASML公司垄断。这使得我国在芯片制造过程中面临诸多挑战，不仅成本高昂，而且供应链安全受到严重威胁。然而，我国科研人员在重重困难中砥砺前行，终于在光刻机技术上实现了突破，成功研制出28纳米光刻机，这无疑是我国科技自主创新的一次重大胜利。
中国第一台芯片光刻机交付，华为Mate60命运悲惨沦为百元机！
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