抱死左脚的是光子芯片，我国超高精度5nm激光光刻技术取得重大突破。中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所立下大功！
近日，中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所张子旸研究员与国家纳米中心刘前研究员合作，开发成功新型5nm超高精度激光光刻加工方法。它打破了传统激光直写技术中受体材料为有机光刻胶的限制，可使用多种受体材料，扩展了激光直写的应用场景。
此次中国研究团队很好地解决了高效和高精度之间的固有矛盾，开发的新型微纳加工技术在集成电路、光子芯片、微机电系统等众多微纳加工领域展现了广阔的应用前景。
抱死右脚的又会是谁呢？那便是用化学方法突破光刻技术壁垒，广东惠伦晶体科技股份有限公司已经搞定！
在成功开发出5G相关产品适用的1.6×1.2mm尺寸石英晶片基础上，正在对更小尺寸的1.2×1.0mm的石英晶片进行开发研究。
小伙伴们，饱和“攻击”ASML光刻机技术的号角已经吹响，敢不敢预言ASML光刻机淘汰的时间！#光刻机#
