套刻精度≤8nm!首台国产DUV光刻机落地,欧美集体“破防”了

小提谈科技 2024-09-21 11:56:40

自从“芯战”爆发以来,美方就把“光刻机”当成了打压我国半导体产业的一把“利刃”!

为了彻底堵死中国芯的出路,美方不仅严格限制EUV光刻机,而且在去年底还与日、荷签订三方协议,如今就连很多中高端DUV光刻机也被纳入了“管制清单”。

可即便如此,美方仍不满足。就在前不久,环球时报等多家媒体爆料,称由于美方不断施压,荷兰ASML计划停止对中国客户的光刻机设备进行检修等售后服务,同时也不再对中企出售1980Di等光刻机型号。

要知道,仅仅是2024年上半年,我们就斥资350亿巨款向ASML采购了约88台光刻机,可如今他们刚把钱赚到手,就意欲过河拆桥。业内估计,最快到明年,我们已购入的一些光刻机设备可能就无法正常运行了,对于正处爬坡破冰阶段的中国芯而言,这无疑是个沉重的打击。

但让人感到振奋的是,就在美方和荷兰ASML宣布扩大禁令不到一周的时间,国内就传出了重磅好消息。估计欧美这次要集体“破防”了,他们的“光刻机讹诈”手段或彻底失效!

在9月上旬,工信部发布了《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》,其中,两款国产光刻机赫然在列,尤其是氟化氩光刻机,其波长为193nm,属于深紫外光DUV范畴,分辨率在65nm以下,其套刻精度更是达到了比8nm更小的水准!

此目录一经公示,迅速引起了全球科技界的广泛关注。对于套刻精度≤8nm这些参数,很多网友普遍认为是可以制造8nm及以下先进芯片的意思,其实并非如此,套刻精度其实指的的是曝光的误差,它与芯片量产工艺一般呈1:3的比例。

也就是说,这台氟化氩光刻机能够适用于28nm成熟芯片的制造,属于初级DUV设备。不可否认,这与ASML的顶级光刻机设备仍有很大的差距,但却丝毫不影响其诞生的重大意义。

要知道,全球只有四家厂商能够生产用于芯片制造的光刻机设备,除了荷兰ASML以及日本尼康和佳能之外,再有就是我国的上海微电子。

之前,上海微电子能够生产的最先进光刻机制程只有区区90nm的水平,如今则迭代到了65nm,可以说迈出了极为关键的一步!更重要的是,这标志着我们在不依赖ASML等国外供应商的情况下,已经完全具备了独立制造生产28nm成熟芯片的能力。

虽然全球芯片工艺目前已经发展到了2nm的水准,但市场的主流需求仍是28nm等成熟工艺,例如航天航空、智能家电,以及当下非常火爆的新能源汽车产业等等,用到的绝大部分芯片都是成熟制程。

因此,这台氟化氩光刻机设备堪称是国内半导体产业一次“里程碑”式的突破,让我们摆脱对美西方依赖的同时,也为国内接下来研发更高端的光刻机设备奠定了坚实的基础。而且,这也是我们对“美西方光刻机封锁”一次强有力的反击!

现在该轮到欧美着急了!“芯战”已持续四年,美方几乎把能用的制裁手段全都用了个遍,可结果却适得其反,进一步促进了中国半导体产业的发展。

还有荷兰ASML,如今估计很焦虑,大陆市场原本是其最主要的营收来源之一,尤其是中低端光刻机,为其创造的利润占比一度高达49%。可荷兰却没能扛住老美的施压,这可把ASML给坑苦了,能够对中企销售的光刻机型号越来越少,损失惨重。

如今随着我们的成熟制程光刻机设备开启全面国产化替代,ASML在大陆市场的处境更是“雪上加霜”,搞不好,未来甚至可能会被彻底排除在外,届时,美芯的日子恐怕也不会好过。这就是美西方与大陆半导体“脱钩”的代价,只能说自食其果。

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