ASML惊讶，“反转”来得如此之快！外媒：告别时刻已至！

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引言： ASML也没有料到"转机"会如此之迅速！外媒：永别了

在高科技产业中，技术变化的速率常常超乎人们的预料。这些快速的变革，既是对公司的创新与市场认知的挑战，更是对未来科技变革的警觉与警觉。光刻工艺作为集成电路制造工艺的重要组成部分，其工艺的发展与变迁将对整个产业产生深远的影响。今天，作为全球光刻行业领导者的荷兰 ASML公司，恐怕都没有料到，"转机"会这么快到来！外国媒体：后会有期。

ASML公司能取得今天的成就，完全不是巧合，它是经过了数年的技术沉淀，以及在激烈的市场中所取得的成绩。光刻机的历史可谓是跌宕起伏，从一开始被美国企业垄断，到后来日本企业逐渐兴起，直至 ASML公司的强势。ASML能在极紫外光刻机这个领域中拔得头筹，这不仅仅是因为 ASML自身的强大，更重要的是来自于美国的大力扶持。

但是，科技的进步从来没有停止过， ASML的领导位置也不会一直保持下去。然而，近几年来，由于 EUV光刻工艺日趋完善，其应用潜力也日益受到限制。在这个时候，新的科技发展趋势已经显现， BEUV的问世对 ASML来说是一个很大的挑战。这种新的方法可以使其发射的波段小于极紫外光，因此可以提高晶片加工的准确性和有效性。科学家们预计，在2035年内，极紫外光刻将被 BEUV光刻所替代。这就意味著 ASML现在的科技领先地位将会在将来失去。

同时，光刻的市场也有了很大的改变。传统的光刻厂商，如 ASML，尼康，佳能，都面临着新科技的冲击。佳能公司的 NILs奈米印刷就是其中之一。与 UV光刻工艺不同，该方法利用奈米冲压工艺，将晶片直接制作在硅片上。佳能公司以此为基础建立了5 nm晶片制造工厂，并且打算在2026年开始2 nm制程。这一新工艺的问世，不但改变了光刻行业的格局，同时也给诸如 ASML这样的大型光学芯片制造企业带来了空前的冲击。

在此背景下， ASML公司必须反思自己的技术路径与营销策略。因此，企业要加强对科技创新的研究与开发，以保证企业在科技领域的优势。同时，为了迎接未来的衰退， ASML公司还必须扩大经营范围，寻求新的发展空间。

但是，上述问题并不是无法解决的。ASML公司在光刻工艺领域的长期积累与丰富的经验，将为 ASML公司解决上述难题奠定坚实的基础。而 ASML公司长期占据着高端极紫外光刻机的市场份额，使得 ASML有足够的资源与空间来进行技术革新与市场扩张。

尽管 ASML现在面对的是空前的困难与挑战，但是并不代表它的前途一片黯淡。而正是这样的挑战与压力，为 ASML公司提供了一个变革与实现的机会。如果 ASML能把握住这个机会并主动迎接挑战，那么它完全可以在这个科技循环中再次站起来，并在光刻产业中保持领先地位。

不过，这还得看一看才知道。ASML公司的前途是不确定的，是不确定的。但不管怎样，我们一定要保持清醒。唯有加强自己的研究与开发，方可在新科技循环中续写神话。走着瞧吧！