哈工大EUV光刻机突破！新加坡学者：只要成功，芯片战就会结束！

前言：如果把我们的手机比作一个人，那么芯片，就是这个人的大脑和连接系统的传感器。

这个只是一个比方，芯片也不只是应用在电子产品上，像通信领域、汽车领域、工业领域、医疗领域、航空航天领域、人工智能AI领域等等，都离不开芯片。

别看芯片小，但其制造流程却十分麻烦，其中，光刻机是芯片制造过程中不可或缺的核心设备，光刻机的好坏直接影响了芯片的制造精度、成本以及性能水平。

但在光刻机的领域上，全球的高端领域光刻机几乎都被荷兰的ASML（阿斯麦）垄断，尤其是在EUV光刻机上，ASML更是常年霸榜高端市场。

但这也凸显出一个缺陷：就是国内长期没有高端的光刻机，只能从ASML公司购买，但为了维护其在半导体领域的领先地位，美荷多次对我国实施技术封锁，导致我国因光刻机问题常被卡脖子。

所以，我国早已经开始针对光刻机技术加大研发力度，力求研发出属于中国制造的高端光刻机，就在前段时间，哈工大传来了一条光刻机的喜讯，而新加坡学者更是称只要中国能成功，那么芯片战将会结束。

那么，哈工大究竟传来了什么样的喜讯，新加坡学者所说的芯片战结束又是怎么一回事呢？

阿斯麦和光刻机

EUV光刻机，就是极紫外线光刻机，这是一种半导体制造设备，使用波长为10~14纳米的极紫外光源进行曝光，能够实现更高的分辨率和更小的特征尺寸，使其成为5纳米及以下制程芯片制造的关键设备。

当然，在2024年的时候，ASML公司的High NA EUV光刻机成为了新的王者，其数值孔径也实现了显著的提升，从之前的标准EUV光刻机的0.33大幅跃升至0.55。

同时，新晋王者的镜头分辨率也取得了惊人的进步，从之前的13nm成功提升到了8nm，正是由于这些关键技术指标的提升，使得能够实现2nm以下先进制程的大规模量产成为可能。

而ASML公司除了拥有先进的EUV光刻机外，还有如ArF浸入式光刻机、ArF干式光刻机、KrF光刻机、i-line 等设备。

可以说，荷兰的ASML公司掌握了全世界90%以上的高端光刻机市场份额，而我国，也是ASML公司的一个巨大市场，我们就拿2024年来说，预计全年仅中国市场就占据ASML全年业绩的三分之一。

但看似逍遥自在的ASML公司却暗流波涌，因为ASML公司看似是荷兰的，但其身后却有美日的支持，这些年来，ASML公司没少和美日眉来眼去。

就拿2024年5月份的时候，中国台湾地区领导人赖清德发布了一系列的错误言论后，祖国母亲围绕着台湾地区展开了演习活动。

这本就是我国自己的事情，没想到ASML公司竟然站在道德的制高点上，宣称如果解放军攻打台湾，那么ASML会远程把台湾地区的光刻机搞瘫痪。

所以，拥有属于中国自主研发的光刻机刻不容缓，而一则来自哈工大的喜报，如同雪中送炭，让我们看到了国产光刻机的希望...

国产光刻机消息

要知道，一台先进的EUV光刻机的制造需要多个方面的技术和资源，涉及多个学科领域，其中，EUV光源更是一项核心技术。

而就在2024年12月底，2024黑龙江省高校和科研院所职工科技创新成果转化大赛决赛如期举行，其一等奖的得主正是来自哈工大的两个项目。

其一为核工业自动化检测维修机器人，而其二，则是放电等离子体极紫外光刻光源，我们就来主要说一下这个光刻光源。

哈工大所制造的光刻光源有很多特点，其中，这四大特点最为显著，第一种特性就是其能量转换效率高，相较于其他同类技术，其能量的转化过程更加高效，能够以更少的能源投入获取更多的产出。

第二种特征就是造价较低，这意味着在大规模推广和应用时，能够有效降低成本压力，其成本优势使得更多企业和研究机构能够负担得起，加速技术的应用。

第三就是体积较小，能够灵活地安装和部署在不同的场所，最后，技术难度较低使得研发和维护变得相对容易，较低的技术难度不仅减少了研发过程中的障碍，还降低了后期维护的复杂性和成本。

而且，它能够提供中心波长为13.5 纳米的极紫外光，在高端芯片制造等领域，对这种特定波长的极紫外光有着极高的依赖，而这一技术则能大力推动我国光刻机的发展。

不过，想要成功并非易事，未来的路还有很长，与此同时，新加坡毕盛资产管理的创始人兼联席首席投资官王国辉针对中国的光刻机有自己的看法。

他先是赞扬中国政府支持以及中国拥有大量的工程人才，最后，他更是表示，如果中国能开发出国产EUV光刻机，那么芯片战将会结束，而他最看好的则是中芯国际。

期待EUV光刻机上刻着“Made in China”字样的那天早日到来！

参考资料