全新国产光刻机曝光，套刻≤8纳米，到底是个什么水平？

说实话，和国际领先水平还是有差距的，但先别急着丧气，因为这并不代表中国最先进的水平，如果把最近发生的事情都联系起来，你就发现这次更像是对美国近期加强芯片制裁手段的回应，真的是会让美国很破防的那种，更重要的这次公布的光刻机还会进一步提升我国汽车、家电等工业品的国际竞争力。那到底咋回事呢？

话说工业和信息化部9月9日印发《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024 年版）》通知：

在这个目录当中，有一个就是集成电路生产装备，格外引人注意。

其中包含了两款国产光刻机，一款是氟化氪光刻机，另一个是氟化氩光刻机，技术更加先进，是这次的重头戏。

氟化氩光刻机，就是传说中的DUV光刻机，根据分辨率65纳米，可得知是干式DUV，水平和阿斯麦“XT:1460K”相近。

大概和全球最先进的光刻机还差2代，一代是浸润式DUV，一代是极紫外式，也就是EUV。

其中浸润式DUV的典型代表就是阿斯麦“NXT:1980Di”，分辨率38纳米，通过多重曝光，可以生产7纳米制程芯片。

全球最先进的光刻机是阿斯麦的“EXE:5000”，采用13.5纳米极紫外光源，分辨率是8纳米，是面向3纳米制程研发的，当然这款现在还很少，就英特尔买了台，还处于是样机状态。

估计看到这里，很多人就会很失望。但其实我看到这个消息时，反倒是感慨咱妈手里的牌，可真不是一般的多。

众所周知，咱们在研发这种大国重器时，通常是服役一代、研制一代、预研一代。这次公布的光刻机，是可以大规模商用、量产的，但绝对不是咱妈手里最先进的技术。

你想啊，华为mate60系列芯片采用的是7纳米制程，肯定不是这次公布的光刻机制造的。

至于咱妈在现在到底啥水平？说实话，我是不知道。

不过，根据国家知识产权局的信息显示，2023年3月9日，上海微电子提交了一份知识产权申请，发明名称是：极紫外辐射发生装置及设备，公开时间是2024年9月10日。

也就是说，去年3月份，中国就已经有团队攻克了EUV光刻机的关键核心技术难题。当然，我们不得不承认的是，距离把这项关键技术运用到整机上，还需要些时间。要知道的是，当初美国制裁芯片产业时，国内外无数专家学者都认为，在20、30年内，中国都搞不出这项关键技术，结果这还不到5年，这个技术就被突破了。

以上还只是技术上的分析，而在供应链方面，情况又会完全不同。

一般来说，我们把制程小于28纳米的芯片称为：先进制程；

28纳米及以上的芯片称为：成熟制程。

成熟制程占全球半导体需求的80%，汽车、洗衣机、医疗设备等日常科技产品，用的都是成熟制程。

美国没有制裁成熟制程，只限制了先进制程，说白了也是为了让欧美企业不至于没钱赚，毕竟中国是最大的芯片市场。

所以，我们一致还能买得到制造成熟制程芯片的光刻机，阿斯麦等企业也还提供相关服务。

可让美国万万没想到的是，制裁没有中国放弃，反而激发了中国人的斗志。这些年中国一边研究先进制程，一边在成熟制程的领域嘎嘎乱杀，直接占据了主导地位。

2023年，中国成熟工艺产能中的全球份额已经达到了31%，而预计到2017年，可以达到39%。

这两年中国成熟制程芯片卖得有多好？

这么说吧，中国汽车出口增长得够快吧？但不如芯片出口增长多。

中国把成熟支撑芯片卖爆，抢了欧美企业的份额，结果就是光刻机不够用了，中国开始找荷兰和日本买能够制造成熟制程芯片的光刻机。

这让美国都破防了，于是美国胁迫荷兰扩大光刻机出口管制范围，说白了就是想限制中国制造成熟制程芯片的能力，进而从中国夺走这部分成熟制程芯片的全球市场份额。

而这次公布的氟化氩光刻机，以及其他许多芯片相关的技术，正是用于生产成熟制程芯片的，而且是国产自研的设备，根本不会被卡脖子。也就是说，美国这次制裁了个寂寞。只是苦了美国的盟友们，本来还可以卖卖光刻机的，现在没得卖了。

所以懂了么？以前美国制裁我们，我们没太多办法。而这些年过去了，美国出完招，我们可以立马反制。