光刻机已经成为老生常谈的问题了，最开始光刻机被关注是因为，中芯国际在2018年向ASML公司订购EUV光刻机被限制出口，后来，因为特朗普对华为芯片业务的限制，让外界真正了解到了光刻机对于芯片制造的重要性，在这种情况下，我国开始聚焦芯片产业链的打造，目前，我国的国产光刻机技术发展已经来到了28nm阶段，根据行业预测，将在短时间内进入商用阶段。

而一旦我国光刻机进入28nm阶段，那么按照现有的产业链情况，我国将在短时内，将国产芯片的制造工艺拉到28nm高度，这能够在很大程度上解决我国芯片制造领域的空白。

也许正是看到了这一点，所以美国又再一次的升级了对我国的芯片限制力度，并且这一次拉上了日本和荷兰，荷兰方面其实是已经早有预料的，就是在EUV光刻机之后，对于DUV光刻机的出口也进行了限制。这对于我们的影响并不是很大。

真正的影响来自于日本，日本方面宣布在7月23日对我国23类芯片制造设备进行管制出口，其中包括了成膜设备、曝光设备、蚀刻设备和清洗设备，这条管制一出，似乎意味着日本想要让我国的光刻机变成废铁，因为虽然在芯片制造流程中，光刻机十分重要，但是，由于半导体制造产业链极为冗长，单单只有光刻机也是无法生产出芯片的，所以说，日本这一招极为阴毒，甚至可以说比美国都要狠。

而现如今日本的管制也已经生效，但是，根据数据显示，日本对我国下狠手后也是遭遇到了“报复”，据悉，日本6月份芯片制造设备销售额创下了三年半最大跌幅。

出现这样的情况也是可以理解的，毕竟，早在5月底日本要下手的消息已经出来了，所以，在这个时候，国内的厂商都在快速调整产业链，将原本从日本进口的相关设备都转移了方向。

另外，其实，在日本管制出口的23类半导体生产制造设备中，也是有很大一部分我们已经实现了国内自给自足的，例如半导体用光刻胶，作为光刻机的“胶片”，目前我们已经有了替代选择，例如南大光电。

还有离子注入机、光罩、蚀刻机等我们也都有了国产选择方案，所以，综合来说，我们短时间内还是不会受到很大影响的，至于一些还没有攻克的设备，一方面我们在加速自研方向，另一方面，我们也在积极寻找新的供应链渠道。

但是，不管怎么说，困难对于我们来说都是一时的，我们是不会被击垮的，这在过去4年里，已经得到了验证，并且，美国的每一次攻击，都让我们变得更加强大，相信很快我们就可以推出全面替代日本供应链的产品，届时，日本半导体制造设备的出口额还将迎来更大的暴跌。

面对这样的情况，外媒方面给出的评论是，日本这是自作自受，不要认为所有的半导体制造设备都非常难以制造。

事实的确如此，光刻机之所以困难是因为其所涉及的零部件数量过于庞杂，但是其它的设备却并非如此，所以说，日本太高看自己对于芯片产业链的重要性了。

如果说，40年前，美国对于日本半导体的打压，只是让日本的半导体跌下神坛的话，那么接下来，来自于我国的爆发，将很大可能让日本的半导体业务进入发展的冰点，毕竟我国的市场份额摆在这里，我们完全可以把价格打到很低，让日本没有能力竞争。

届时，希望日本不要后悔现在的举动。