哈工大拿下光刻机制作技术，中国芯片之困，即将彻底破局？

人类科技的进步离不开晶体管的发展，晶体管又是通过芯片集成起来进行相互配合，最终逐步实现了计算机、手机、平板等设备的出现。

但是在芯片制造的过程中，有一个重要但是又极易被人忽略的设备，它就是光刻机，光刻工序甚至占据了芯片制作时间的一半左右。

这个几乎人类在半导体产业中没有听说过的名字又为何在芯片制作中占据了这么重要的地位?

光刻工序是在硅晶片上制造电路版图的工序，这个工序的最终效果就直接关系到晶体管与电晶连通状况。

然而光刻机正是完成这个有着高级精度要求的工序过程中的关键设备之一，具体来说，要想制造出结构复杂且精度极高的电路版图，这就需要将液态的光致抗蚀剂涂抹到硅晶片表面，并通过光刻机发射出激光形成复杂元件形状的曝光版图。

随后硅晶片就会经过化学处理，将光刻剂发射出激光之后固体化后的固态物质固化于硅晶片上形成电路版图。

简单来说，这个光刻工序就是将电路分布图印在硅晶片上的一步工序。

众所周知，要想生产出高精度的芯片，就必须研发制造出更先进和精密的光刻机。

因此，在欧美国家纷纷察觉到中国对半导体领域持续不断的突破时，都急忙选择了齐齐进行联手干预，最终达成了一项限制中国半导体发展的协议。

这项协议中提出了最重要的一点，就是中国应该停止研发出能应用于半导体行业制造出高端芯片的先进光刻机，否则一旦研制出来就会受到制裁。

并且，除了中国这一方面，各国在进行交易时也会对中国增加一项附加条件，就是他们不能向中国出售用于制造先进光刻机必备原材料萤石。

对于此项条件，各国达成了一致并开始践行，最终导致中国无论如何也制作不出性能更高端的光刻机。

然而就是在如此严峻的国际市场形势下，一家我国高校却顶着压力探索出了新的可能性，这家学校就是我国黑龙江省的一所大学—哈尔滨工业大学。

众所周知，我国高校中有“七校”之称，这七所高校就是清华大学、北京大学、浙江大学、上海交通大学、哈尔滨工业大学、华中科技大学和天津大学。

这也是因为这七所高校长期以来在科研领域里不懈努力获得了一系列重大的研究成果，有些成果甚至达到了世界领先水平，因此被称为“七校”。

在研究领域里，哈尔滨工业大学最为突出的专业便是机械设计制造及其自动化专业，这个专业不仅培养了大量优秀的人才，还为中国各领域的发展提供了重要支撑。

如今，在中国新材料、新设备、乃至新技术蓬勃发展的背景下，一种新型光刻技术应运而生，这就是哈工大团队研发出的13.5纳米极紫外光源。

极紫外光刻技术就是以极紫外作照相为原理进行工作的一种新型光刻技术，制作EUV光刻机需要用到特定设计的一系列设备，其中就有这种13.5纳米极紫外光源。

因此，这一技术可以说是我国极紫外光刻机研发上的重大突破，也为我国半导体行业的发展带来了重大积极影响。

这证明我国在这一领域有了自主研发能力，也为我国未来在极紫外光刻机方面的技术研发铺平了道路，实现了更高端境界的探索，为我国半导体行业带来了无限可能。

这项研究成果不仅备受国内关注，国外也对我国这一重大突破进行了大量研究分析，并给出了一系列不同看法，但大多数人的观点还是持肯定态度。

随着我国科技发展能力持续提升，不断取得巨大突破，有消息称哈工大极紫外光源完成测试之后，ASML公司的设备正面临无法进入中国市场这一局面，甚至还有消息显示，该公司已经开始销售设备以挽回损失。

近年来，国外对全球半导体市场进行了全面调查，发现全球半导体行业正在发生一场大变化，其中我国所占份额正在不断增加。

这种变化甚至引起了美国等国家的警醒，他们对中国科技研究发展的步伐感到危机，因此，他们决定进一步限制中国科研发展能力，以遏制中国在科研领域上的力量。

他们认为这样做能够让中国科技始终依附于自己，并未意识到这样做的结果是推行双牙镀大，反而让广州以外更重视科研发展，从而加快自己的发展步伐，同时，中国的危机意识也愈发强烈，因此，我国高校和科研机构都更加积极主动地开展自己在科研领域的探索和创新。

如今，中国在这个领域取得重大突破，证明我主动研发能力完全有能力与国际市场竞争，也拥有自主研发生产世界先进科研设备的能力。

哈工大通过持续不断地努力，取得了一系列重大的研究成果，不仅仅局限于先进硬科技领域，还包括智能飞行机器人、火箭技术等多个领域，在这些领域中取得了一系列巨大的进展。