近年来，美国对我国半导体产业的管制成为全球科技竞争中的一个焦点问题。ASML（荷兰的半导体设备公司）首席执行官在一次公开节目中谈到了这一问题，指出美国的核心管制措施，尤其是对EUV光刻机的限制，严重阻碍了我国在先进半导体技术上的进步。EUV光刻机是制造先进芯片的关键设备，特别是对于5nm和3nm制程技术至关重要。而由于我们无法获得这一关键设备，我国的半导体产业在5nm及以下节点的技术进展停滞不前，落后于全球先进水平大约10至15年。这种技术上的滞后，直接影响了我国在全球半导体产业中的竞争力。

EUV光刻机，简单说，就是制造超小芯片的机器。全球很多大公司，比如英特尔、台积电、三星等，都是靠这个技术做出最先进的芯片。美国提供了光源，德国做了镜头，荷兰的ASML公司做了设备。没有这个设备，任何国家都没法做出最先进的芯片。所以，没这个设备的中国，就无法做5nm、3nm这种芯片，跟世界先进水平差了好多年。也就是说，控制了EUV光刻机，就等于掌握了半导体行业的“制高点”。现在中国做的还是比较“老”的芯片技术，比如28nm、14nm这些，虽然不能满足最新智能手机的需求，但在一些特殊领域还是有用的，比如工业、汽车、军事等。比如中国自己做的龙芯CPU，就用在这些地方。

但是，由于没有EUV光刻机，做不了最新的5nm、3nm芯片，所以中国在半导体行业的进步被限制住了，跟全球领先水平差了很多，特别是高端芯片的制造，还是没法商用。美国不仅仅是限制我们买这些设备，还通过各种手段不让技术转让给我们。简单来说，就是不给我们最先进的工具，也不让我们学这些技术。这样一来，中国就很难赶上世界的技术水平。现在全球最先进的EUV光刻机几乎是荷兰ASML公司一家独占，中国在这方面几乎没有技术积累。所以美国的限制，让中国在短期内没法赶上先进的技术。

尽管面临这么大的压力，中国的半导体产业还是在发展，并且找到了新的方向。未来，我们会大力发展AI芯片（就是用来做人工智能任务的芯片）。随着人工智能技术越来越好，对AI芯片的需求也会大大增加。中国已经意识到，AI芯片将是未来半导体竞争的核心。为了突破5nm、3nm技术的瓶颈，中国还会继续做成熟技术的大规模生产，降低成本，增强产业链的自主能力。通过更完善的供应链，我们可以逐步减少对外部技术的依赖，提升在全球市场的竞争力。虽然中国在成熟芯片技术和AI芯片方面有了进展，但和全球最先进的技术比，差距还是不小。未来，中国需要加大投入，不管是技术研发、设备制造，还是人才培养，特别是要在像EUV光刻机这种关键设备上突破。

另外，中国还要加强和其他国家的合作，特别是在一些关键技术领域，争取更多的国际合作机会。只有通过不断创新和合作，才能突破目前的技术瓶颈，在全球半导体产业中占有一席之地。美国对中国半导体的限制，尤其是对EUV光刻机的限制，确实让我们在高端技术上受到了很大影响。不过，中国的半导体产业还是在前进，通过技术创新、自主生产等方式，不断发展。未来，随着人工智能技术的进步和芯片算力的提升，中国有机会在全球半导体市场中占有一席之地，逐步打破技术封锁，实现自主可控的发展。