尼康推新光刻机，面向中国市场！

光刻机是中国最核心的一道工序，也是整个半导体行业最弱的一道工序，毕竟我国的光刻技术才刚刚进入90 nm而已。

因此，我们需要持续地从荷兰与日本引进大批的光刻设备，由于目前世界上，可用于半导体产业制造前道光刻机的，除中国上海微电子外，仅荷兰 ASML及日本佳能及尼康。

统计数字表明， ASML去年进口的光刻设备将达到600多万，比2022年翻了三倍还多.......

然而所有人都知道，2024年之后，国内的光刻机就很难再从国外引进了，特别是更加高端的浸没型光刻机，在美国，日本，荷兰都彻底取消了对光刻机的出口限制。

如果 ASML，尼康，佳能这些大公司，如果要卖给我们，也要受国家的限制，技术上也不允许有多高的水平。

面对这样的局面，光刻机生产商又该怎么做？毕竟中国是一个巨大的市场，不可能就这样拱手让人，必须要有销售渠道才行。

尼康公司的常务副主席近日称，中国消费者对尼康的平版打印机提出了大量需求。所以，尼康还选择了“在符合法律规定的情况下拓展其经营范围”。

你怎样才能在保证遵守规定的前提下发展你的事业？因此，为了更好地适应中国市场的需要，本公司采用了一种全新的石印设备，并对其各项技术指标进行了改进。

佳能表示，他们将于今夏发布一款新型I-line光刻机，这也是佳能25年来首次使用I-line光刻机。

从原理上来说，线版印刷已经非常成熟，三十多年来一直被应用在制作250奈米及以上的8吋晶片，也就是早期的微影制程。

中国有制造这种光刻设备的实力，并且我们有90 nm，难道我们还用得着向日本买这种仅能制造250 nm晶片的光刻机？

许多人推测，尼康此次推出的I-line光刻机，绝对不止250 nm，这种光刻技术，我们就算绞尽脑汁，也不一定能找到，说不定还有别的新特性，具体是啥，就让我们等着看了。