文、编辑：安德烈的笔记
有没有发现，别的国家越发压制中国，中国的能力就越强，纵使能够突破对方的封锁。
正因此，有不少美国人对此产生恐慌，甚至脑袋一抽，在网站上公开质疑，说中国都没有经过美国的允许，凭什么私自对DUV光刻板进行研发。
不是，他们这么自大的吗？难不成平常说美国是霸权，他们还就真的以为美国无所不能了？
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——【·光刻机的重要性·】——
现在大家手里攥着的智能手机，兜里揣的智能手表，甚至家里智能冰箱的“大脑”，都离不开指甲盖大小的芯片。
而造这些芯片的核心设备，就是被称为“纳米画师”的DUV光刻机。
它就像是在硅片上“雕刻”的艺术家，能够将极其精细的电路图案精准地“画”出来。
这些电路图案的线条越细，芯片的性能就越强大。
没了这个设备，别说手机得退回大哥大时代，连新能源汽车的自动驾驶系统、医院的CT机都得瘫痪。
对于一个国家而言，DUV光刻板的意义更是深远。
它不仅关系到国家的科技实力，更是与国家安全息息相关。
在全球半导体产业竞争日益激烈的背景下，掌握DUV光刻板技术意味着在芯片制造领域拥有了自主权，不再受制于人。
所以自从发现DUV光刻板的妙用后，各国都在紧锣密鼓的发展研究，就希望自己能够牢牢掌握DUV光刻板的全球市场。
其中最卖力的就是美国。
——【·美国光刻机的发展·】——
上世纪80年代，美国为了在半导体领域保持领先地位，政府和企业都纷纷加大了对DUV光刻技术的研究投入。
科研人员们在实验室里没日没夜地钻研，试图找到利用深紫外光提高芯片制造精度的方法。
他们深知，谁能率先掌握更精细的芯片制造技术，谁就能在未来的市场竞争中占据优势。
进入90年代，美国在DUV光刻技术上取得了显著进展。
美国的科研团队在光源技术上取得了重大突破，他们研发出了更稳定、更高效的深紫外光源，为DUV光刻技术的发展提供了坚实的基础。
同时，在光学系统的设计上也有了创新，使得光线能够更精确地聚焦和成像，从而提高了光刻的分辨率和精度。
2000年后，美国的DUV光刻板技术进入成熟阶段。
美国的光刻机凭借其卓越的性能和质量，赢得了全球众多半导体制造商的青睐。
近年来，美国在DUV光刻板技术的研发上继续投入，不断探索新的技术方向。
例如，美国的一些研究团队正在研究如何通过改进光源和光学系统，进一步提高DUV光刻的分辨率和效率。
当然，美国也并不是可以高枕无忧的，在这条道路上，它最大的阻碍就是中国。
——【·中国光刻机的发展·】——
中国的半导体产业起步较晚，光刻机技术发展相对缓慢。
尽管在芯片设计和制造的其他方面取得了一些成就，但在光刻机领域却一直未能取得重大突破。
然而，随着国家对半导体产业的战略重视，光刻机的研发逐渐被纳入国家级科技攻关重点，由此开启了中国光刻机技术的快速发展之路。
20世纪70年代，中国科研人员在艰苦的条件下，硬是靠自己的聪明才智和不懈努力，造出了第一台光刻机。
虽说和国际先进水平还有差距，但这无疑是中国光刻机发展史上的一块里程碑，为后续的研究和发展积累了宝贵的经验。
进入21世纪，随着时间的推移，中国的科技实力逐渐增强，科研人员在光刻机技术上也有了更多的积累和创新。
国内的科研机构和企业加大了对光刻机研发的投入，科研人员们不断探索和尝试新的技术和方法，使得中国光刻机的技术水平逐步提高，与国际先进水平的差距也在逐渐缩小。
2018年中国科学院光电技术研究所研制的“超分辨光刻装备”通过验收，标志着中国在光刻机技术上取得了重大突破，达到了国际先进水平。
当然，美国自然不愿意中国发展出来，为此美国还不断给中国下绊子。
老美这几年在半导体领域给咱们使的绊子，那真是连环套。
先说那个《芯片法案》，限制中国获取先进半导体技术和设备。
更损的是搞“外国直接产品规则”，用着美国技术的企业都不能给中国供货，限制中国企业获取相关技术和设备。
美国移民局专门给芯片工程师开快速通道，并通过高薪、科研经费等手段吸引中国科技人才，削弱中国在该领域的竞争力。
最要命的是设备封锁，2023年3月，美国要求荷兰ASML公司不得向中国出售DUV光刻机。
2024年1月，美国进一步施压荷兰，要求限制对中国客户的DUV光刻机维修服务。
但好在，中国都挺过来了。
中国政府出台了一系列支持半导体产业发展的政策，并加大了科研资金的投入，推动了DUV光刻机技术的自主创新。
中国加强了半导体相关专业的人才培养，并通过各种政策吸引海外高端人才回国，为DUV光刻机技术的发展提供了人才支持。
2023年传出个大消息，咱们自己的DUV光刻机终于能支持14纳米芯片制造了。
这事可不简单，相当于把原来只能做毛坯房的工具升级成了精装修设备。
要知道前两年国内芯片厂造28纳米芯片还得排队买外国设备，现在至少中端芯片生产不用完全看人脸色了。
2024年，中国工信部发布了《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录》，直接把“氟化氩光刻机”列进去了。
我可以这么说，目前国内的DUV光刻机领域发展整体呈上升趋势，主要研发力量有中科院微电子研究所、上海微电子装备（集团）公司等单位。
其中，上海微电子装备（集团）公司是中国目前唯一能够生产DUV光刻机的企业，基本上能够每月生产几台。
虽然产量还没法和ASML比，但关键是他们把最要命的核心部件都啃下来了。
中国在光刻机领域的追赶之路，可以说是顶着“逆风局”走出来的。
尽管美国试图通过技术封锁和出口管制来限制中国的发展，但中国在DUV光刻板技术上取得的成就，展现了中国科技实力的不断提升和在全球科技竞争中的坚定决心。
未来，随着技术的不断进步，中国在光刻机领域还将获得进一步突破，为全球科技竞争注入新的动力。
