IT之家11月15日消息，《日本经济新闻》当地时间今日凌晨报道称，日本先进半导体代工企业Rapidus购入的第一台ASMLEUV光刻机将于2024年12月中旬抵达北海道新千岁机场，这也将成为日本全国首台EUV光刻设备。
根据Rapidus高管以往表态，该光刻机是较早期的0.33NA型号，而非目前全球总量不足10台的0.55NA（HighNA）款。
据悉本次整个空运任务将分多架次完成，新千岁机场还为这台对精度要求极高、不耐振动的“庞然大物”对机场颠簸不平的路面进行了重新铺设；此外ASML已在千岁市建设了客户服务中心，将支持该系统的接收。
按Rapidus此前的规划，该公司定于2025年4月启动先进制程原型线，该产线将拥有包括EUV光刻机在内的共计200余台设备。根据千岁市当地政府的说法，Rapidus的IIM-1晶圆厂截至上月底已完成63%的施工进度。
除Rapidus外，日本未来还有至少两家晶圆厂将先后导入先进的EUV光刻机：
美光1-gamma（IT之家注：即1cnm）制程DRAM内存需使用EUV，美光广岛工厂预计于2025年内导入EUV光刻设备为2026年的量产做准备；台积电控股子公司JASM预定2027年投产的第二晶圆厂包含6nm产线，也需要EUV机台。
