罗门哈斯取得用于具有高硬度的高孔隙率化学机械抛光垫的配制品及用其制成的CMP垫专利

金融界 2024-11-23 12:16:37

金融界2024年11月23日消息,国家知识产权局信息显示,罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司取得一项名为“用于具有高硬度的高孔隙率化学机械抛光垫的配制品及用其制成的CMP垫”的专利,授权公告号CN114770370B,申请日期为2022年1月。

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