京东方申请阵列基板及其制作方法等专利,提高显示装置性能

金融界 2024-12-05 14:05:51

金融界2024年12月5日消息,国家知识产权局信息显示,京东方科技集团股份有限公司申请一项名为“阵列基板及其制作方法显示面板及显示装置”的专利,公开号CN119069478A,申请日期为2023年5月。

专利摘要显示,本申请提供一种阵列基板及其制作方法、显示面板及显示装置,包括衬底基板、设置于衬底基板的一侧的多个薄膜晶体管及在源极和漏极远离衬底基板的一侧依次设置的第一无机绝缘层、有机绝缘层、第二无机绝缘层和第一电极。薄膜晶体管包括有源层、栅极、源极和漏极,有源层与栅极之间设有栅极绝缘层。有机绝缘层设有第一过孔,沿垂直于衬底基板的方向第一过孔贯穿有机绝缘层且与漏极相对设置;第二无机绝缘层设有第二过孔,第二过孔在衬底基板的正投影位于第一过孔在衬底基板的正投影范围内,且第二过孔沿垂直于衬底基板的方向贯穿第二无机绝缘层和第一无机绝缘层,第二过孔靠近第一过孔的一侧设置;第一电极通过第二过孔、第一过孔与漏极电连接。

本文源自:金融界

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