金融界2024年12月5日消息，国家知识产权局信息显示，等离子体成膜有限公司申请一项名为“等离子体处理装置”的专利，公开号CN119069326A，申请日期为2023年10月。
专利摘要显示，本发明提供一种等离子体处理装置，其包括在等离子体处理室内处于接地电位的被加工基材以及与该基材相对配置的电感耦合型天线单元，在二者之间具备调制等离子体电位的偏置电极。另外，本发明提供将多个所述处理室连接的串联方式的等离子体处理装置。
本文源自：金融界
等离子体成膜有限公司申请等离子体处理装置专利，能够调制等离子体电位
金融界
2024-12-05 14:05:52
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