金融界2024年12月17日消息，国家知识产权局信息显示，中芯国际集成电路制造(上海)有限公司、中芯国际集成电路制造(北京)有限公司取得一项名为“目标版图的修正方法及掩膜版版图的形成方法”的专利，授权公告号CN113109991B，申请日期为2020年1月。
本文源自：金融界
中芯国际取得目标版图的修正方法及掩膜版版图的形成方法专利
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