金融界2024年12月21日消息，国家知识产权局信息显示，京东方科技集团股份有限公司申请一项名为“水印提取方法、模型训练方法、水印添加方法和电子装置”的专利，公开号CN119151762A，申请日期为2023年6月。
专利摘要显示，本公开提供一种水印提取方法、模型训练方法、水印添加方法和电子装置。水印提取方法包括：获取嵌入水印的待处理图像，其中水印中包括多个定位块和多个信息块；利用第一识别模型对待处理图像进行识别，以识别出多个定位块中的至少部分定位块；利用至少部分定位块的当前位置关系和至少部分定位块的参考位置关系，对待处理图像进行变形处理，使得在变形后的待处理图像中，多个定位块的当前位置关系和多个定位块的参考位置关系一致；根据多个定位块的参考位置关系，从变形后的待处理图像中提取出多个信息块；利用第二识别模型对多个信息块进行识别，以获取多个信息块携带的水印信息。
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