金融界2025年1月2日消息，国家知识产权局信息显示，北京北方华创微电子装备有限公司取得一项名为“半导体工艺腔室及半导体工艺设备”的专利，授权公告号CN222233577U，申请日期为2024年1月。
专利摘要显示，本申请实施例提供了一种半导体工艺腔室及半导体工艺设备，其中，所述半导体工艺腔室包括：腔室外壁，半导体工艺腔室设有等离子放电腔；腔室外壁围设于等离子放电腔外，腔室外壁设有第一穿孔，第一穿孔内设有封堵第一穿孔的第一导光柱，第一导光柱用于透射出等离子放电腔内的光线，第一导光柱的背离半导体工艺腔室的一侧设有聚光透镜。该半导体工艺腔室能够基于等离子放电腔的辉光确定起辉状态。
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