天合光能申请单晶黑硅绒面的制备方法等专利,能保证优异的陷光效果

金融界 2025-01-31 21:18:23

金融界2025年1月31日消息,国家知识产权局信息显示,天合光能(扬州)光电有限公司和天合光能股份有限公司申请一项名为“单晶黑硅绒面的制备方法、TOPCon太阳能电池及光伏系统”的专利,公开号CN119384075A,申请日期为2024年10月。

专利摘要显示,本申请提供了一种单晶黑硅绒面的制备方法、TOPCon太阳能电池及光伏系统,涉及晶硅太阳能电池技术领域。单晶黑硅绒面的制备方法,包括:对单晶硅片进行金属辅助化学刻蚀,得到目标单晶硅片;利用碱溶液刻蚀重建目标单晶硅片的圆柱形纳米孔状黑硅绒面。先基于MACE制备黑硅纳米绒面结构,形成密集且均匀排布的深圆柱形纳米孔状黑硅绒面;再利用碱溶液刻蚀重建表面绒面,黑硅纳米绒面结构表面被蚀刻,深层纳米孔洞被转化为方形凹坑,底部出现更多的纳米级倒金字塔结构,平均孔径增大,平均孔深缩短,重建后的绒面表面呈现出均匀的纹理,减少了复合中心密度,有利于在后续制程获得良好的钝化效果,同时还能保证优异的陷光效果。

天眼查资料显示,天合光能(扬州)光电有限公司,成立于2023年,位于扬州市,是一家以从事电力、热力生产和供应业为主的企业。企业注册资本54800万人民币,实缴资本1100万人民币。通过天眼查大数据分析,天合光能(扬州)光电有限公司参与招投标项目15次,专利信息1条,此外企业还拥有行政许可8个。

本文源自:金融界

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