国产化率很低的半导体材料：光掩模

掩模版的作用是将设计者的电路图形通过曝光的方式转移到下游行业的基板或晶圆上，从而实现批量化生产。作为光刻复制图形的基准和蓝本，掩模版是连接工业设计和工艺制造的关键，掩模版的精度和质量水平会直接影响最终下游制品的优品率。

目前国内的光掩模产业链处于较落后位置

1）上游：掩模版行业上游设备、原材料主要依赖国外进口；

2）中游：掩模版制造行业市场份额被日韩等国际竞争对手占据，中国大陆企业仅能占据较小的市场份额，竞争力受到一定限制；

3）下游：下游需求的增长驱动了光掩模行业的发展。

国产化需求旺盛：

天风证券发现，2020-2021年是最近的一次面板行业上行周期，而期间面板掩模版的销售额比2018-2019年有所下降。在面板下行周期，掩模版公司有较好的收入增长，是因为平板显示厂商在产能利用率下降的情况下为保持竞争力，可能会加大新品开发的力度，反而带动了平板显示用掩模版需求的大幅增长。

根据SEMI的统计数据，2019年在半导体芯片掩模版市场，英特尔、三星、台积电等晶圆厂自行配套的掩模版工厂占据65%的份额，其它的掩模版主要被美国Photronics、日本DNP以及日本Toppan三家公司所垄断。与此同时，掩模版基材及其石英基板、光刻胶、光学膜等关材料同样被国外企业垄断。

相关标的，仅供参考：

1）清溢光电：规模最大国产光掩模供应商之一，客户拓展实现突破

2）路维光电：面板G11代线领跑，掌握光掩模制造核心技术

3）龙图光罩：领先的半导体掩模版厂商，工艺节点已覆盖主流需求

4）无锡迪思：华润微旗下光掩模制造企业，技术领先

5）豪雅光学：与京东方合资设立中国光掩模子公司，空间有望成长

a股股票[超话]