按照荷兰的的政策规定，从2023年9月1日起，荷兰将正式实施半导体限制出口措施。
从9月1日起，荷兰一些先进半导体设备，包括ASML先进的光刻机，想要出口到特定的国家和地区必须得到荷兰相关部门的许可才可以。
而根据荷兰出口限制清单， ASML最先进的 EUV光刻机是不能出口到中国的，在出口限制措施生效之后， DUV系列的一些先进型号，包括TWINSCAN NXT:2000i、NXT:2050i这两种型号想要出口到中国必须获得荷兰的出口许可，但按照荷兰的当前政策，基本上不可能出口到中国了。
一旦荷兰限制先进光刻机出口之后，对中国的芯片行业还是有一定影响的，DUV光刻机是用于生产高端芯片的重要设备之一，尤其是对于14纳米以下的芯片来说，基本上离不开荷兰的DUV以上光刻机。
所以很多人都担心，在荷兰半导体出口限制措施生效之后，我国的国产芯片行业会受到很大的影响。
但我相信车到山前必有路，荷兰限制先进光刻机出口确实会影响中国芯片的发展进程，至少在高端芯片研发方面会有很大的障碍。
但从整体来说，目前我国的芯片格局不会有太大的变化，荷兰限制出口对我国现有芯片产业影响有限。
一方面是我国有部分先进光刻机存量。最近两年时间，我国半导体行业发展非常迅猛，我国一些企业也加大从荷兰进口一些DUV光刻机，其中就包括2000i和2050i系列i。
至于目前国内这两款光刻机的存量是多少？我们没有看到具体的数据，但是从荷兰ASML公布的相关财报数据来看，2023年第2季度他们交付了117台光刻机，其中就有27台是出口到中国大陆市场的，这里面就包括一些先进型号的DUV光刻。
此外虽然荷兰半导体限制出口措施从9月1日开始生效，但并不意味着ASML马上中断对中国的出口，按照规定他们不能接受新的订单，但是对于9月1号之前已经签下的订单，他们有一个过渡期，在2023年9月到2023年12月份这个4月的时间是可以正常向中国企业交付的。
而且根据有些媒体的报道，据说目前ASML所持有的中国企业订单大约是100台左右，未来有可能会集中交付。
如果这些数据是真的，这意味着就算ASML未来停止向中国供应先进型号的DUV光刻机了，但国内仍有部分存量可以应用，这用来满足国内半导体产业的生产是没有多大问题的。
这次荷兰限制出口主要是针TWINSCAN NXT:2000i及后续浸润式系统，但并不包括TWINSCANNXT:1980Di这个型号，这意味着以后1980Di仍然可以向中国正常出口。
1980Di虽然没有那么先进，但用于满足一些中低端芯片的生产是没有问题的，1980Di分辨率大于等于38nm，在一次曝光中可以制造大于等于38nm的尺寸，但是光刻机可以进行多次曝光，再加上目前我国有部分芯片企业已经实现了工艺的突破，从理论上来说，使用TWINSCANNXT:1980Di可以生产28nm、14纳米甚至10纳米的芯片。
为了应对外部限制先进光刻机带来的冲击，这两年时间我国有很多企业一直在寻求出路，其中有一个重要的解决方案就是实现芯片堆叠技术。
通过芯片堆叠，这样可以利用一些中低端光刻机来实现高性能芯片的生产，如果在能耗控制方面的技术能够实现突破，那将可以有效缓解先进光刻机被限制出口带来的冲击。
首先我们不否认，在荷兰限制出口先进光刻机之后，确实对我国的半导体产业产生很大的影响，至少7纳米以下短期之内是很难实现技术突破，这意味着我们跟国外一些先进企业会有很大的差距，尤其是在高端芯片上面就没有什么竞争力了。
对于手机、人工智能等一些特殊行业，想要使用先进的芯片只能从外部进口，这会面临很多不确定因素。
但从整体来说，荷兰限制先进光刻机出口对我国影响有限，因为我国绝大部分芯片都不需要那么高端，绝大多数芯片只需要28纳米以上就可以满足。
另一方面，目前我国的国产光刻机研发也一直在不断推进当中，很多核心技术也在不断取得突破；在荷兰限制先进光刻机出口之后，说不定会加快我国高端光刻机自主研发的进度，而且给国产光刻机企业提供更多的机会，我觉得这并不完全是一件坏事。
