就在进入2025年的前几天，我们国家传来一个又一个好消息。先是六代机首飞成功，紧接着，两栖攻击舰“四川舰”也顺水下水了，海防力量又添一员猛将。
不光如此，我们半导体界也是捷报频传。2024年，我们国产芯片的出口额首次冲破了万亿元大关，这可是实力的象征。更厉害的是，高端EUV光刻机的研发也有了重大进展，说出来你可能不信，哈工大放了个大招，把ASML都给惊着了，直呼“真要来了”！
ASML的总裁富凯先生，在接受采访的时候，提到了美荷联手禁止向我们出售EUV光刻机这事儿，他说这样一来，我们大陆的芯片制造技术就要落后西方十年十五年。这话听起来挺让人不是滋味的，但也从侧面反映了EUV光刻机的重要性。
有一说一，EUV光刻机是制造高端芯片的关键设备，特别是7纳米以下的先进制程，离了它还真不行。虽说用先进的浸润式DUV也能凑合着做出7纳米、5纳米的芯片，但成本高、良品率低，不是长久之计。
不过，我们也不是吃素的，华为自研的麒麟芯片就是个例子。你看那几款麒麟芯片，性能直逼7纳米甚至更先进的工艺，华为还说了，通过软硬件优化，这事儿能成。想当年，台积电刚开始搞7纳米的时候也没用EUV，后来有条件了，自然就用上了。现在人家3纳米都量产了，2纳米也开始风险试产了，我们虽然没EUV，但差距也没ASML总裁说得那么大。
但话说回来，EUV的重要性我们心里还是有数的。关键是，EUV光刻机全球就ASML一家能造，人家当然有骄傲的资本。连英特尔这样的美企巨头都得排队抢购ASML的高端EUV。
台积电能成为晶圆代工的老大，跟ASML关系铁是一方面，更重要的是人家EUV拿得多，技术又领先，自然抢占了90%的先进制程市场。三星为了追上台积电，也是拼了，直接跑到ASML总部去套近乎，就是为了多搞点EUV回来。
反观我们大陆的企业，想买EUV，基本上没戏！中芯国际早在2018年就订了台EUV，1.2亿美元，结果因为美方的阻拦，到现在都没见着影儿。所以，要想用上EUV，我们要自力更生，加快自主研发的步伐。
2025年还没到，哈工大就传来了好消息，“放电等离子体极紫外光刻光源”项目在大赛上拿了一等奖，ASML估计都没想到。这可不是纸上谈兵，是实实在在的成果转化，项目优势多多，造价低、体积小，还能提供13.5纳米的极紫外光，跟ASML的EUV光刻机用的光源一模一样。
光源在EUV光刻机里那可是核心中的核心，还有高精度镜头、精密仪器制造技术，这三样缺一不可。我们这次在光源上有了突破，物镜系统、双工作台这些也都在路上，虽然还有差距，但正在加速缩小。
照这个速度发展下去，我们国产EUV光刻机未来五年左右突破不是梦。就连外媒都忍不住说，大陆的国产EUV真要来了。到时候，ASML总裁说不定得改口，美方那套限制出口的策略也得重新考量考量了。对此，你们怎么看？
