不久前，华为Mate70系列要发布的消息一出来，让整个手机界都炸了锅。华为说了，这新手机里的芯片，全都是我们国产的！特别是那个麒麟9020芯片，虽然只用到7nm的工艺，但性能上，一点不比用台积电4nm工艺的高通骁龙8+差劲儿。
很显然，我们国内现在自己就能搞定至少7nm级别的芯片生产链了。
大家都知道，这些年美国拉着日本、荷兰这些盟友，使劲儿在光刻机上给咱们使绊子，想着只要不让我们用上中高端的光刻机，我们就只能在14nm以下的成熟芯片上打转。
其实，就算没有中高端光刻机，华为等中企也能玩出新花样，靠着小芯片、超线程这些黑科技，硬是把芯片封锁给破了。连ASML这家光刻机大佬都出来说，华为和中芯国际在芯片领域进步神速。
不过话锋一转，ASML又说了，虽然进步大，但没有EUV光刻机，跟台积电、三星、英特尔这些大佬比起来，还是差个10到15年。
ASML这话里话外，有点小九九。毕竟，它是现在唯一能造EUV光刻机的，要是承认没了这玩意儿也能搞高精尖芯片，那不等于砸了自己饭碗？谁还愿意花大价钱买它那昂贵的设备。
其实ASML心里明镜似的，论制造水平，中芯国际真不差，但为了强调EUV光刻机的不可或缺，为了保住自己的独门生意，它只能拿工艺、良率、稳定性这些说事儿。
可没想到，反转来得这么快。12月30号，哈工大传来好消息，樊继壮教授团队搞的“放电等离子体极紫外光刻光源”项目，拿了科技大赛的头奖！
这对我们国内光刻机产业来说，就是雪中送炭。这技术弄出来的极紫外光，波长刚好13.5nm，正是EUV光刻机急需的，效率高，成本低，体积小，技术难度还低，好处多多。
而且，不只是哈工大，长春光机所在EUV光源这块儿也有大动作，虽然方法不同，但都是往EUV光源上使劲儿。
这么一来，我们在EUV光刻机上的被动局面算是翻篇了。光源上，我们不光突破了，还有两套备选方案。更厉害的是，EUV的其他核心技术，像双工件台系统、物镜、EUV多层膜这些，我们的企业和科研机构也攒了不少专利。
这事儿一出，外国媒体都炸了，说中国芯崛起的势头，谁也挡不住了。用不了几年，美国西方那套包括EUV光刻机在内的垄断，都得被咱们打破。ASML最怕的事儿，看来是真要来了。
ASML因为不给我们EUV设备，已经少赚了不少钱。要是我们真有了自己的EUV，还能大规模生产，那这东西迟早得跟盾构机一样，价格大跳水。到时候，不光是美国的半导体供应商，连ASML这些设备厂商，都将面临灭顶之灾。对此，你们怎么看？
