当华为等中企开始蚕食西方企业的市场份额，尤其是在手机芯片、通讯这些数字基础设施领域挤压西方企业的生存空间，以美国为代表的西方国家开始将我们视为“绊脚石”，对国内相关企业乃至整个行业频频出手，用尽了手段，比如芯片。

起初只是将中企列入实体清单不允许为提供相关产品，之后开始联合海外含美技术的企业终止合作，甚至拉拢全球拥有光刻机制造技术的国家建立“三方协定”控制全球中高端光刻机的流向。

我国是全球芯片消耗最大的国家，如果没有芯片，必然会对国内科技、经济造成巨大冲击。所以，如何解决芯片制造、光刻机自主可控的问题已经刻不容缓！

让国人感到自豪的是，我们有一个非常牛掰的天赋，一旦某些技术被卡脖子就会激发国人斗志，我们很快把它的基本原理、基本方法搞清楚，短期内就会攻克技术难关，所以每隔一段时间，国内芯片领域就会传来“捷报”。

清华大学立功了

清华大学唐传祥团队更是打出一个“王炸”，在《自然》杂志上发表了一篇名为《稳态微聚束原理的实验演示》，文中提及，该团队已经通过PTB的计量光源成功实现了世界首次稳态微聚束的原理实验。

据介绍，实验基于稳态微聚束原理，能获得高功率、高重频、窄带宽的相干辐射，波长可以覆盖到太赫兹到极紫外波段，也就是EUV波段。清华大这一突破之所以能取得外界高度关注，就是因为该光源系统可以作为EUV光刻机的光源。

在芯片制造产业链中，光刻机是不可或缺的核心零部件，这也是整个产业链中制造难度最大、最关键的环节。光刻机的精度直接影响着芯片集成的晶体管密度，影响芯片的性能和能效表现，而光刻机的精度则取决于光源的曝光分辨率和波长。

ASML的EUV光源主要采用的是将准分子激光照射到锡等靶材上，激发出13.5nm的极紫外辐射，在业内这也被称为是一流的技术，但该技术被ASML等西方资本牢牢掌控，并且相关产品只有对ASML的独家供货权。

清华大学主导的稳态微聚束则是一种更为创新、更为颠覆的粒子加速器光子源，波长可调，可以满足不同设备，别说当下的EUV光源，就算下一代6nm的Blu-X光源都能满足，对未来EUV光刻机的落地提供了坚实的技术基础。

据悉，清华大学正在积极支持并推动稳态微聚束EUV光源在国家层面的立项工作，一旦这项技术全面落地，有研发实力的国产芯片会立刻摆脱美芯片规则和三方协议的限制。

中国芯片快回来了

值得关注的是，光源基本已经成了高端国产光刻机的最后一块拼图了。

光刻机主要包含三大子系统：光源、物镜、工件台。中科科美的镀膜装置能实现0.1nm的精度，可以满足对EUV镜头的制备需求。华卓精科与清华团队的双工件台，打破了长期以来ASML对双工件台的垄断局面，实现了高度国产化。如今清华大学在光源领域的重要突破，对国产EUV光刻机的加速落地具有重要意义。正是如此，一些外媒表示：中国芯片快回来了！

不过，我们也要认清现实，ASML曾表示将图纸给我们也造不出光刻机，可见想要让零部件能更好的协同工作，达到最佳性能，前方的路还有很长，不仅需要上下产业链紧密配合， 还要不断进行技术创新和研发，提高零部件的性能和质量，更要加强人才培养和引进，为芯片产业发展提供最强有力的保障。我们坚信，相信国产芯片的未来是可期的！