ASML 新任首席执行官 Christophe Fouquet 近日在SPIE大会上介绍了ASML的High NA EUV光刻机，并表示英特尔的第二套 High NA EUV光刻机已经组装完成。
ASML推进High NA EUV技术High NA EUV 光刻机不太可能像最初的 EUV 光刻机那样出现延迟。傅恪礼还谈到了组装扫描仪子组件的新方法，即直接在客户工厂安装，无需经历拆卸及再组装的过程。这将大大节省 ASML 与客户之间的时间和成本，有助于加快 High NA EUV 光刻机的发的和交付。
紧随其后上台的是英特尔院士兼光刻总监 Mark Phillips，他表示英特尔已经在波特兰工厂完成了两台 High NA 光刻系统的安装，而且他还公布了一些资料，表明 High NA EUV 相对于标准 EUV 光刻机所带来的改进可能要比之前想象中还要多。
由于已经有了经验，第二套 High NA EUV 光刻系统的安装速度比第一个还要更快。据称，High NA 所需的所有基础设施已经到位并开始运行。用于 High NA 的光刻掩模检测工作已经按计划开始进行。因此，英特尔无需做太多辅助支持工作即可将其投入生产。
英特尔完成第二套系统组装High NA EUV光刻机将不太可能像当前标准EUV光刻机那样出现延迟交货的情况，其原因是ASML找到了组装扫描仪子组件的新方法，就是直接在客户工厂进行安装，无需经历拆卸及再组装的过程，这将大大节省ASML与客户之间的时间和成本，有助于加快High NA EUV光刻机的发货和交货。
英特尔院士兼曝光技术总监Mark Phillips在Christophe Fouquet之后的演讲中也表示，英特尔已经在波特兰工厂完成了两套的High NA EUV光刻系统的安装。
此外，Mark Phillips 还公布了一些的数据，说明了 High NA EUV光刻机相对于标准EUV光刻机所带来的改进，通过High NA EUV光刻机应用出来的改善结果可能要比之前想象中还要多。
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