央视正式确认，光刻机又一关键技术取得突破，国产化迎来利好

最新谈资 2021-08-11 18:11:59

芯片风波带来的影响已经涉及众多科技企业，华为被制裁的场景历历在目，从未敢忘。即便是前段时间，华为刚刚发布的旗舰机P50，也只能够使用落后的4G芯片，所以解决核心问题刻不容缓，就致力于半导体领域的发展，丝毫不敢懈怠，许多国产企业也纷纷加入其中。国产芯片已经成为科技行业的目标之一，但是芯片制造的核心设备光刻机却成为最难解决的问题，导致我国半导体为此苦恼，迟迟没有前进。

说到光刻机，全球最顶尖的光刻机生产商就是荷兰ASML，这家企业的客户更是全球互联网巨头，可想而知，其国际地位以及影响力有多高。但他对中国的态度却十分恶劣，公开放话称，就算将光刻机设计图纸给中国，中国也造不出来。确实，EUV光刻机的零部件就高达10万件，并且来自全球各个国家，仅凭一己之力很难完成。

但即便如此，我国也不会放弃，现在除了自主研发已经无路可选。国内对光刻机的各个核心技术都在不断研究，上海微电子更是肩负重任。一个又一个的突破已经让我们有充足的把握将光刻机制造出来。华卓精科的双工件台，科益虹源的激光技术都将为国产光刻机助力。并且，有消息透露，中国第一台28nm浸润式国产光刻机也将在今年量产。

近段时间，央视又传来好消息，中国第一台高能光源设备技术已经被攻破，并且进入到了安装阶段。这是在中科院团队的带领下完成的，而且这种光源技术也有望实现解决EUV光刻机的光源核心问题，光刻机国产化也迎来利好。根据消息了解到，这是一项全国产化的光源技术，将来的应用场景也非常广泛。而清华团队所研发的稳态微聚束。也为国产光刻机增加一份力量。