透射电子显微镜（TEM）是一种利用电子束穿透超薄样品以获取高分辨率图像的技术，它在材料科学、生物学和物理学等多个学科领域内扮演着至关重要的角色。TEM能够揭示材料的微观结构，包括形貌、晶体结构、缺陷、化学成分和电子结构等关键信息。

如何形成的

TEM的运作依赖于电子与样品的相互作用。电子枪产生电子束，这些电子随后被一系列电磁透镜聚焦并加速至高能量状态（通常在80 KeV到300 KeV之间），然后投射到样品上。透射电子被物镜和成像透镜捕获，最终在荧光屏、感光胶片或CCD相机上形成图像。由于电子的波长极短，TEM能够实现纳米甚至亚原子级别的分辨率，远超传统光学显微镜的分辨率限制。

组成部分

电子枪：负责产生电子束，主要类型包括热发射和场发射电子枪，其中场发射电子枪因其高亮度和优越的聚焦能力而适用于高分辨率成像。

电磁透镜：用于控制电子束的聚焦和放大，功能类似于传统光学显微镜中的光学透镜。

样品台：允许进行精确的样品定位和倾斜操作，以研究不同方向上的样品结构。

探测器：包括荧光屏、感光胶片或数码探测器（如CCD相机），用于记录样品透射后的图像。

操作模式

TEM的操作模式多样，以适应不同的分析需求。

1. 明场成像（Bright Field Imaging）：这是TEM中最普遍的成像方式，通过透射电子形成图像，适用于观察样品的整体形貌和晶体缺陷。

2. 暗场成像（Dark Field Imaging）：通过选择特定散射角度的电子进行成像，以突出样品中的特定结构。

3. 高分辨透射电子显微镜（HRTEM）：通过直接成像电子波的干涉图样，实现对晶体结构的原子级分辨率成像。

4. 电子衍射（Electron Diffraction）：分析电子束与晶体相互作用后产生的衍射图样，以确定材料的晶体结构。

5. 能量色散X射线光谱（EDS/EDX）：结合TEM使用，通过分析特征X射线的能量来确定样品中元素的种类和分布。

6. 电子能量损失谱（EELS）：通过测量电子穿过样品时的能量损失，提供材料的化学成分、价态和电子结构信息。

样品制备技术

TEM样品制备是实现有效分析的关键步骤，要求样品必须足够薄以便电子束能够穿透。常用的样品制备方法包括：

机械研磨：将块状样品研磨至适当厚度，再通过离子减薄技术进一步减薄至电子束可穿透的厚度。

聚焦离子束（FIB）：从大块材料中精确切割出超薄样品，适用于复杂材料的精确制备。金鉴实验室拥有专业的FIB技术团队，能够处理各种复杂样品。

超薄切片：适用于生物样品或聚合物等软材料，通过超薄切片机切割出纳米至几十纳米厚的样品。

优势与局限性

1.优势：

提供亚纳米或原子级别的分辨率，是材料表征的高精度工具。

功能多样，能够结合多种技术进行化学成分和晶体结构分析。

适用于多种材料，包括无机材料、金属、半导体、有机物和生物样品。

2.局限性：

样品制备过程复杂，特别是对于脆性或复杂材料。

操作技术要求高，需要专业知识和经验。

需要在高真空环境下测试，不适合研究不稳定或挥发性样品。

透射电子显微镜（TEM）作为一种强大的显微技术，为我们深入理解材料的微观世界提供了宝贵的视角。尽管存在局限性，但其在材料科学领域的重要作用不容忽视。