日本半导体创业公司Rapidus成为日本首间获得极紫外线（EUV）曝光设备的公司，目前已开始在北海道千岁市在建芯片厂安装设备。该公司首席执行官小池淳义（Atsuyoshi Koike）18日在新千岁机场举行的典礼上表示，将从北海道和日本向全球提供最先进半导体。

日经报道称，ASML制造的第一批EUV曝光系统已于14日运抵机场，本月底将在芯片厂完成安装。由于该系统体积庞大，将分四阶段安装，一个完整设备重达71吨，如同一头鲸鱼，高度为3.4米。

ASML是全球唯一EUV设备供应商，每个设备成本约1.8亿美元以上，视机型而定。目前只有少数芯片制造商采用，包括台积电、三星电子和英特尔，去年全球仅交货42台。

据悉，小池淳义于11月陪同ASML监事会成员Martin van den Brink参观无尘室及工厂其他区域。Van den Brink作为ASML前首席技术官，在EUV技术的开发中发挥领导作用，并批准相关安装工程进行。

Rapidus正与IBM合作，计划2025年春季完成2纳米制程芯片原型开发，并在2027年实现量产。相比之下，芯片代工龙头台积电则计划2025年开始量产2纳米芯片。

日本半导体业曾在1980年代占据全球超过50%的市场占有率，但到2000年代已退出更小尺寸逻辑芯片的竞争，目前没有一家日本芯片制造商能生产40纳米以下的先进芯片。Rapidus在日本政府支持下成立，旨在重振日本先进芯片的生产能力，降低对进口的依赖。日本政府目标到2030年实现国内半导体销售额达15兆日元，为2020年的三倍。

日本承承包商鹿岛建设（Kajima）正兴建专门用于安装Rapidus EUV系统的大楼，无尘室则由高砂热学工业（Takasago Thermal Engineering）负责。为了累积专业知识，Rapidus已派遣约150名工程师前往IBM学习生产线管理技术。

根据日本政府数据，全球先进半导体市场预计到2030年将增至53兆日元，相较2020年增长近八倍。

（首图来源：Rapidus）