10月15日消息，据“中国光谷”公众号，日前，武汉太紫微光电科技有限公司（以下简称“太紫微公司”）推出的T150 A光刻胶产品，通过半导体工艺量产验证。
T150 A光刻胶实现配方全自主设计，对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列。据介绍，相较于国外同系列产品UV1610，T150 A在光刻工艺中表现出的极限分辨率达到120nm，且工艺宽容度更大，稳定性更高，坚膜后烘留膜率优秀。通过验证发现T150 A中密集图形经过刻蚀，下层介质的侧壁垂直度表现优异。
这里需要敲黑板，说重点，那就是该类型的光刻胶是：100%国产，配方是全自主设计，也就是说，这个配方做出的光刻胶，只有我们卡别人脖子，别人要用是需要我们同意的，是一种全新的光刻胶配方，相当于是从0到1，走的和传统光刻胶不同的路。
光刻胶光刻胶：又称光致抗蚀剂，是一种对光敏感的混合液体，主要由感光树脂、增感剂和溶剂组成。 光刻胶通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度会发生变化，从而在光刻工艺过程中用作抗腐蚀涂层材料。光刻胶在半导体材料表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可以在表面上得到所需的图像。
光刻胶按其形成的图像分类有正性和负性两大类。正性光刻胶在曝光后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下来；而负性光刻胶则相反，曝光部分被保留下来，未曝光部分被溶解。此外，光刻胶还可以根据曝光光源和辐射源的不同，分为紫外光刻胶、深紫外光刻胶、X射线胶、电子束胶、离子束胶等。
光刻胶主要应用于显示面板、集成电路和半导体分立器件等细微图形加工作业。在电子工业中，特别是集成电路的制造中，对所使用光刻胶有严格的要求，因为生产技术较为复杂，品种规格较多。
太紫微公司资料显示，太紫微公司成立于2024年5月，由华中科技大学武汉光电国家研究中心团队创立。
武汉市太紫微光电科技有限公司是一家小微企业，该公司成立于2024年05月31日，位于湖北省武汉市东湖新技术开发区关南一路20号当代科技园（华夏创业中心）一期4栋1层3号1-3F-76，目前处于开业状态，经营范围包括一般项目：自然科学研究和试验发展,工程和技术研究和试验发展,新材料技术研发,技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广,生物基材料聚合技术研发,生物基材料技术研发,电子专用材料研发,新材料技术推广服务,专用化学产品制造（不含危险化学品）,新型膜材料制造,电子专用材料制造等。
仅用半年，华科大光刻胶就将光刻胶从论文转换到了量产验证依稀记得，2024年4月2日，官网媒体才报道九峰山实验室和华中科技大学研究团队在光刻胶技术领域取得重大突破：“据湖北九峰山实验室官方消息，九峰山实验室与华中科技大学组成的联合研究团队在光刻胶技术领域取得了重大突破，成功研发出“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”技术。这一技术的突破，为我国半导体产业的发展注入了强大的技术动力，标志着我国在光刻胶领域的研究迈出了坚实的一步。”
这一具有自主知识产权的光刻胶体系已在产线上完成了初步工艺验证，并同步完成了各项技术指标的检测优化，实现了从技术开发到成果转化的全链条打通。
结语从成果发布到量产验证仅用了半年时间，再一次证明了华科人的速度，而华科大之所以能够在产业化道路上走得越来越远，与学校注重将科研成果产业化的思路是密不可分的，同时学校还注重成果向成果转化中的中试生产，目前与武汉“车谷”合作建立了中试生产平台，为学校的科研成果快速落地打下了基础。
