芯片，被誉为数字时代的“新石油”，不仅是通讯、手机等电子行业的重要驱动，更是未来全球产业的核心。然而，芯片还是老美最擅长的领域之一，尤其是制造过程中必需的EUV光刻机，老美卡着世界的“咽喉”，这也是我国半导体行业迫切需要的设备。

但近年来老美为遏制我国科技发展，一方面破坏我国半导体产业链，另一方面构建自己的“芯片联盟”，以实现芯片供应链去中国化。

尤其是近期，老美的“芯片战”大有升级之势，除了高端EUV光刻机之外，老美又启动了新计划，联合日本、荷兰签订了一份关于光刻机的协议，旨在限制全球所有DUV光刻机生产商的正常出货。虽然该协议还未落地，却证明了老美在遏制中国半导体产业发展上不会死心！

值得注意的是，即便再复杂的设备，也是人造出来的，并非是神，而且物理原理就在那里，日本能自主研发出规避ASML的光刻机，为什么中国不能呢？而且我国的研发投入已经突破3万亿元的大关，正在追赶世界第一的美国。

光刻机正在被国产逐步替代

这不，近期国内市场传出消息，昆山同兴达首台由上海微电子自主研发的国产光刻机顺利搬入并开始投用。据悉同兴达一次订购了两台，费用为3600万元，这是一台凸金块封测光刻机，行业内属于领先水平，虽然只是后道封测光刻机，但这充分释放了一个不同寻常的信号：ASML、尼康这些海外企业的市场正在被中企逐步替代！

我国拥有全球规模最大的芯片消费市场，同时也正在成为全球最大的芯片制造国家，根据公开数据显示，2022年我国集成电路产量3242亿件，砍单970亿件，平均每日产能高达百亿，巨大的市场空间，完全能为国内供应商的茁壮成长提供肥沃的土壤。

在前道光刻机方面，上海微电子已经实现了90nm光刻机的量产。除了上海微电子，大族激光的接近式光刻机也投入市场，步进式光刻机已启动用户优化，据悉这些设备的分辨率为3-5μm，并且该公司表示，正在加大研发核心零部件国产化。

虽然与EUV光刻机还有不小的差距，但不积跬步无以至千里，这对我国后续光刻机产业的发展夯实了基础。

而在大家更为关心的DUV光刻机方面，虽然上海微电子的DUV光刻机还没交付，但上海微电子投资者传出消息称，上海微电子在激光这一核心零部件方面与英诺激光展开了合作。也有消息称，国产28nm精度的DUV光刻机有望在2023年底落地！

针对中低端光刻机的国产化，一些外媒表示：低估了中国的实力，如果按照这种发展势头，中国研发出高端芯片制造设备，不会用太长的时间！

美、日、荷联合为何围堵不了中国？

关于芯片，其实是否有得用是一回事，是否好用其实是另一回事！举个例子，我国实现了28nm工艺芯片的量产，生产线国产化率并非100%，据悉，包含美系设备的生产线良率为85%，含国产设备的良率为75%，在更多的环节实现国产化，并不意味着不能生产，只是多费一些材料，多费一些成本，效率低了一点，并不代表不能用，只是为了满足行业标准，比如80%以上才能盈利。

因为中企目前有竞争对手，全球企业处于一个相对公平竞争的环境，如果老美打破这种平衡，海外DUV光刻机设备无法来，我国还有2025年70%芯片自给率的要求，这种平衡就会被打破，即便自家生产线良率只有50%，也不影响我们使用。

而且，荷兰已经公布，会在政治风险与商业利益之间寻找一个“折中点”，会调整政策尺度。日本也公开表示，即便新规落地也会采取比较“温和”的政策，因为日本的野心很大，并且技术含美率比较低，恰巧能与我国半导体产业形成互补。

总体来说，老美的摊牌并不是一件坏事，反而倒逼我们不断突破，同时加快对下一代半导体的布局。同意的请点赞，同时转发给更多志同道合的朋友！