前言
我国科技发展有目共睹，但就有这么一个物品的生产，全球约90%都被日本把控。
那么，几乎被日本垄断生产的究竟是什么？
为什么别的国家很难将其生产出来，而日本一旦对我国断供又该怎么办？
为何非日本不可
在半导体制造这一高精尖领域当中，存在着一种极为关键的材料，它是一种对光极为敏感的混合液体，犹如半导体产业大厦的基石般重要，这种材料便是光刻胶。
凭借其独特的光敏特性，深度参与到半导体芯片，从设计蓝图迈向实体芯片的复杂工序流程里，在每一道精细的光刻环节中，都发挥着不可替代的作用。
而通过光刻技术，就可以利用光刻胶等，将设计好的电路图案精确地转移到硅片等基底材料上，后再经过蚀刻、离子注入等工艺，最终可形成复杂的集成电路。
从手机芯片到电脑处理器，从工业控制芯片到汽车电子芯片，而几乎所有的半导体产品制造，都离不开光刻胶这一种关键的生产材料。
而日本就是抓住了光刻胶，这个有着半导体心脏的重要技术，占到了较大的市场份额。
在全球的日本光刻胶企业，就占据到了全球光刻市场的约70%——90%市场份额，其中尤其是在较为高端的ArF和EUV光刻胶领域 ，日本更是用超90%的市场占有率占据了全球主导。
日本的半导体材料，也确实在全球获得了认可，甚至在材料领域的地位，更是拥有着主动权。
在日本的多个企业，就经过几十年的持续研发和技术改进，愈发的掌握了光刻胶生产的关键技术，能够生产出高精度、高分辨率、高感光度的光刻胶产品。
甚至逐步实现了，在半导体材料行业的日渐垄断现象。
就像在2019年时的韩国，约80%的光刻机都依赖日本，但被日本给摆了一道。
当时因为日韩政治因素影响，2019年的日本就宣布要对韩国半导体进行限制。
目的是要对韩国在光刻胶材料上实施断供，这一举动也直接让韩国半导体行业陷入困境，直到2023年的日本政府才终于宣布，对韩国解除限制，这样的一来一回还是韩国吃了亏。
所以韩国政府也就开始了积极研发生产，并终于实现了反击日本垄断，突破了其技术壁垒。
而我国自然也是不甘落后，看到了日韩闹了长达四年的“日韩半导体贸易战”。
不仅韩国的国内企业加快突破技术壁垒，我国与世界各国都开始了技术研发突破。
可能鉴于日本之前对韩国的行为，让不少国家都看到了日本在贸易方面的野心，各个国家也都开始了发挥自身所长，并各司其职的对半导体材料进行生产。
在各国的未雨绸缪之下，光刻胶的研发也有了加快的趋势，无“胶”可用的现象也渐渐消失。
而为了满足半导体产业进步，各国也在不断向更小制程发展。
像是光刻胶的相关产品，在全球范围内，也开始了研发之路，可想要真正实现自主研发，却并不是一件容易的事儿。
光刻胶关键技术难在哪儿
面对日本在光刻胶领域的技术优势，以及在全球贸易市场较大的市场份额。
各国想要突破材料领域的限制，就需要自主研发与生产光刻胶产品。
但研究之路也并非总是一帆风顺的，也会与其他国家一样遇到一些的问题。
其中最先要解决与面对的，就是技术壁垒这一首要的因素。
因为在光刻胶的生产中，也会涉及到较为复杂的化学合成和精密工艺控制技术等。
所以从原材料的选择与合成方面，到光刻胶配方的设计与优化方面，再到生产的过程中，各国也都要对于质量的控制和检测，花费掉更多的投入，而每个环节也都需要精密与细致的研究。
在生产之中具有高度专业化知识与技术，就显得尤为重要的了。
像是在高端的光刻胶生产中，不少需要精确控制的分子大小、结构以及分布等，都会对研究的精准把握有着较高的要求。
但为了为确保在光刻生产过程中，能够展示其最优的表现性能，生产光刻胶的企业，也就需要具备更为深厚的化学研发实力，以及长期对相关技术研究的经验积累。
但就是这些要求，对于许多国家的企业来说，也是难以在短时间内实现突破的障碍。
不少的国家一直就处于被日本制约的状态，甚至较为依赖日本的生产制造等。
所以就会像前面讲到的韩国一样，被日本扼住了生产研发的脖颈，所以想要实现自主研发的脚步，也就不得不被禁锢住了，而除了技术上的问题外，还有一些因素同样艰难。
在光刻胶生产时，就有研究研发所需要的资金投入，成为了光刻机研发生产的，一个尤为关键的制约因素，所以在资金支持与投入方面也并不是各个国家，都能负担的起的。
就比如想要建设一条先进的光刻胶生产线，那么有所投入那自然是必不可少的。
而后续的研发投入，并想要持续的不断发展下去，那么资金消耗必不会少。
对于光刻胶这种技术要求高、投资回报周期长的光生产，就会显得后劲儿不足或是难以为继了。
而就算是一些国家，可以拥有雄厚的资金实力，与长远的战略眼光能力，还有一项也会成为其发展的羁绊。
光刻胶的生产领域，可不是任何一个国家或个人可以取得的成果。
尤其是在全球范围内，想要拥有高能力的相关研发人才，也是企业的必不可少。
就比如正常的光刻胶产业，所需要的人才，就是既懂化学、材料科学等多项基础学科的人。
而能熟悉上面的学科，又对半导体制造工艺掌握的复合型人才，全国范围内都很难得。
国家培养一个具备扎实理论知识、与丰富的实践经验和创新能力的专业人才，那也是需要花费较长的时间培养于良好教育科研环境中的，而这也就在一定程度上，极大限制了别国的自主研发。
而我国本身就拥有庞大的需求市场，而光刻胶产业的发展，因为就有了广阔的空间和机遇。
尤其是我国不断地进行自我突破，找寻并获得更为先进优越的技术，打破了日本的技术壁垒。
我国打破壁垒的惊人突破
随着我国半导体产业的快速发展，国内对于光刻胶的需求也在持续增长。
而国内光刻胶企业、高校等，就在国家的重视下，拥有天然市场优势与发展的优势。
在通过我国的不断努力与技术水平的提高，在产品的质量等都实现了技术突破。
尤其是在技术能力突破日本技术壁垒后，也还逐步扩大了国内外的市场份额。
就像在2024年的10月15日，我国光谷就诞生了尤其重大的科技成果。
2020 年对于我国光刻胶产业的发展而言，也是个关键节点。
在这一年，我国光刻胶销售额就取得重大突破，甚至一路攀升至约 87.4 亿元人民币。
这一数字较之往年不仅实现大幅的增长，甚至还在全球产业格局中，有了逐步站稳脚跟的趋势。
在我国的光刻胶这种物品的使用占比中，也是占到了全球约14.6%的份额，市场潜力巨大。
到了2021年的全球光刻胶市场规模在约113亿美元的程度下，我国也是达到了110亿元人民币。
这一数据较之以往，那也是同比增长了有约25%的水平，可见增长速度的迅猛。
等到了2022年的我国市场规模，更是达到了116亿元，呈现出了逐年增加的重要趋势。
我国作为全球重要的光刻胶消费国之一，想要打破技术壁垒也显得尤为重要，而我国的一些光刻胶生产研发企业，也是遵从国家的需要与国际社会的发展开始了布局。
像是在我国长三角、珠三角以及成渝鄂等地区，都开有展光刻胶的生产与研发技术。
因为有着较为广阔的光刻胶市场前景，以及一些企业所保持的高度市场敏锐度成果。
我国光谷就实现了技术上的重大成果，比如在光刻工艺里，能成功展现 120 纳米的极限分辨率。
实现极限分辨率这一成果，也让我国光谷实现了率先攻克光刻胶的原料与配方。
从而完成了打破制造瓶颈，并运用到半导体工艺上，呈现我国新技术与量产的能力。
这样一来既可以实现企业的盈利与抗风险能力，也可以让我国的国际地位不断提高。
通过拓展国际市场和积累经验，我国的新技术也逐步实现在世界占据一席的能力。
而我国自主研发的新型光刻胶，在全球同系列产品中，也日渐显现出了脱颖而出的架势。
不仅可以实现更宽的加工线宽，还可以为我国高端芯片制造等精细加工领域，提供更加强有力的技术支撑，从而极大地提升了我国在光刻胶相关产业的国际竞争力。
我国经过几十年的深耕科研，能在关键光刻胶的底层技术研究上，以新技术路线与半导体制造上面，开辟出具有自主知识产权的配方技术，也是不少科研人员共同的功劳。
即使研发之路，我国需要面临诸多的挑战，但通过政府、企业和科研机构等各方的共同努力，突破并实现了光刻胶生产的自主化，也是别的国家所想象不到的优越能力。
而我国致力于摆脱产业困境、和实现光刻胶的产业自主可控发展，也是为了保障我国半导体产业，能在供应链安全等方面，不受别国限制的重要前提。
而我国技术的不断发展，也让我国的光刻胶技术，有了实现世界领先的可能，而能够实心打破国外关键技术壁垒，终有一日实现相关产业全球的主导地位，也是指日可待的。
参考资料
中国电子报——《日本光刻胶市场地位：是否真的坚不可摧？ 》2024-05-16
中国报告大厅——《2024年光刻胶市场规模分析：中国光刻胶市场规模为116亿元》2024-02-14
央广网——《谷攻克芯片光刻胶关键技术》2024-10-16
澎湃新闻——《重大突破！华科人攻克芯片光刻胶关键技术》2024-10-24
