在全球半导体产业的舞台上，荷兰阿斯麦（ASML）公司曾凭借其极紫外（EUV）光刻机技术独领风骚，成为行业的霸主。而中国，由于此前在光刻机制造领域的技术缺失，对荷兰的光刻机存在较大的依赖性。
然而，美国为了遏制中国的发展，禁止荷兰向中国出口光刻机，荷兰选择顺从美国，这一决定对中国半导体产业造成了极大的冲击。但这也让中国科技界痛下决心，誓要突破光刻机技术的封锁，不再让他国卡住我们发展的脖子。
经过几年的不懈努力和艰苦钻研，中国在光刻机研发领域终于取得了令人瞩目的进展。2024 年 9 月，两款国产 DUV 光刻机的成功研制，标志着中国在光刻机技术上实现了重大突破。如今，中国的光刻机技术日趋成熟，不仅满足了国内市场的需求，还成功走向国际市场，其出口价格仅为荷兰同类产品的三十分之一，展现出了强大的竞争力。
荷兰在得知这一消息后，陷入了极度的惊恐之中。他们已经深刻地感受到了危机，因为一旦中国光刻机技术全面崛起，阿斯麦将彻底失去庞大的中国市场。而且，在全球光刻机产业的竞争中，中国也将成为荷兰强劲的对手。
近年来，荷兰盲目跟随美国加大对中国芯片制裁的力度，导致阿斯麦在中国市场的销售大幅下滑，营收锐减至原来的五分之一。若这种态势持续下去，待到中国研制出更加先进的光刻机技术，荷兰不仅会失去中国市场，还可能在全球光刻机竞争中被中国超越，彻底丧失竞争力。
在 1 月 21 日，荷兰首相马克·斯霍夫声称荷兰有权决定是否向中国出口光刻机。然而，事实证明，中国已经在光刻机技术上走出了自己的道路，逐步摆脱了对荷兰的依赖。荷兰应该清醒地认识到，合作共赢才是符合时代潮流的选择，单方面的封锁和限制只会导致自身利益受损。中国光刻机技术的崛起，不仅是中国科技实力提升的体现，也为全球半导体产业的发展注入了新的活力和竞争元素。
未来，中国将继续在光刻机技术领域砥砺前行，为推动全球科技进步和产业发展贡献自己的力量。而荷兰，也需重新审视自己的立场和策略，以更加开放和合作的态度面对全球市场的变化。
