据外媒报道，ASML官方发布的消息显示，经过十余年的突破性科学和系统工程建设，第一个高数值孔径EUV系统运送到英特尔。据悉，首台2nm光刻机新机器成本超过3亿美元，可帮助计算机芯片制造商生产更小、更快的半导体。
此前，ASML计划在2024年生产10台2nm设备，其中6台为英特尔采购。按照其制造规划，未来几年将此类芯片制造设备产能提升至每年20台，并相继向授权国家出口。英特尔也相继会使用该设备制造面向人工智能的第五代至强（Xeon）处理器和新款酷睿Ultra处理器，连同最新的人工智能芯片Gaudi 3也将会同期发布。
随着ASML相继推出更高制程工艺光刻机，并在先进工艺的普及下，谁先获得也将影响当前AI智能芯片领域的“竞赛”中的胜败。但因目前对于我国的禁令，无法获取先进制程工艺光刻机，还是需要加紧研制自己的光刻机设备。
