（日本大和热磁）直拉单晶炉
（日本Takatori）线切割设备
（中国盛美）晶圆清洗设备
光刻曝光设备/光刻机
ASML光刻机）
（日本东京电子 涂布显影设备）
其他薄膜工艺设备，如外延，电化学沉积等等。
北方华创 PECVD设备）
（北方华创硅刻蚀机）
（离子注入机构造）
（美国亚舍利/Axcelis 高能离子注入机）
(CMP设备工作原理示意图）
（美国应用材料 CMP设备）
愿每一位半导体设备从业者的辛勤付出都能开花结果，愿国产半导体设备产业的未来光明璀璨，早日成为全球半导体设备领域的重要力量！
来源：半导体材料与工艺设备
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