这两天网上被一家名不见经传的公司给刷屏了。
在3月26日至28日举行的中国国际半导体展（SEMICON China）上，一家叫新凯来的企业被洗被众多参展者层层围观。
而大家之所以对这家企业感兴趣，主要是他们在参展期间一口气就发布了几十个产品，这些产品主要跟半导体制造有很大的关系，这些设备很有可能成为改变中国高端芯片格局的关键转折点。
因为这里面很多设备都填补了国内的空白。
比如在量检测装备上面，2021年之前，我国严重依赖进口，国内没有企业能够生产，而这次新凯来一下就发布了一系列产品，新凯来发布的PX量测产品系列，包括沂蒙山AFM、赤壁山-XP XPS、赤壁山-XD XRD、赤壁山-XF XRF填补了国内没有量检测装备的空白。
再比如ETCH“武夷山”，这款设备搭载自研静电卡盘专利，表面电荷释放速度提升40%，也填补国产存储芯片刻蚀设备空白 。
除了我们所提到的这两款设备之外，新凯来还发布了EPI“峨眉山”、ALD“阿里山”、PVD“普陀山”一系列产品，而且这些设备都是制造高端半导体的关键设备。
这些产品涵盖扩散产品、刻蚀产品、薄膜产品、光学检测产品、光学量测产品等众多领域。
这里面哪怕只拿一项设备出来，都可以说相当惊喜了，而深圳新凯来一下就发布了一系列产品，这确实让人很震惊。
那新凯来到底是什么来头？为何突然之间就爆发出来了呢？
公开资料显示，新凯来全称是深圳市新凯来技术有限公司，成立于2021年8月，由深圳国资间接100%控股，旗下业务涵盖半导体、工业机器、光学等多个领域。
看到国产半导体设备能够取得如此惊人的突破，这是非常让人振奋的，再结合最近一段时间所发生的一些利好消息，很多人都说国产EUV光刻机真的要来了。
最近一段时间，除了新凯来之外，其实有几个跟光刻机有关的消息也引人关注。
这两天中科院取得固态光源技术的突破，就让很多中国网友兴奋不已，据国际光电工程学会（SPIE）报道，中科院研发出了一种新的光源技术路线。这种技术路线基于Yb:YAG晶体生成1030nm红外激光，然后分两路转换，最终在硼酸锂晶体中混合为193nm激光，这种激光理论上可以用于DUV光刻机。
但至于中科院这个光源是否具有实战性有待验证，毕竟它的功率太小了，而且即便能够应用在光刻机上，也只是针对DUV光刻机，对于EUV光刻机所需要的极紫外线还是无法达到要求的。
不过大家也不用着急，实际上目前EUV所需的极紫外线光源中国已经实现技术突破了。
在2024年12月30日，哈尔滨工业大学新闻网曾经报道过，航天学院赵永蓬教授研发的“放电等离子体极紫外光刻光源”具有能量转换效率高、造价较低、体积较小、技术难度较低等优势，可提供中心波长为13.5纳米的极紫外光，能够满足极紫外光刻市场对光源的迫切需求。
这说明我国在EUV光刻机光源上其实已经取得突破了。
当然光刻机是非常复杂的一个系统，除了光源之外，包括物镜，双工作台，其他零部件都有很高的技术要求。
从目前我国EUV光刻机的研发进度来看，包括光源、双工作台、光刻胶等核心材料，还有沉积设备等很多核心零部件都不断实现突破，国产化率越来越高。
目前唯一不能确定的就是物镜系统不知道有没有突破，物镜是EUV光刻机的重中之重，按照ASML的成本构成来看，物镜系统占整体成本的比重可以达到30%左右。
而物镜的成本之所以很高，因为物镜的要求非常严，基本上是地球上最光滑的东西，比如一块直径1.2米反射镜，其表面最高起伏只有0.12nm，只相当于原子直径的1/4左右。
正因为技术要求非常严，目前全球真正能够提供这种物镜的只有一家企业，也就是德国的蔡司，而且人家是连续磨了180年才有今天的这个技术的，除了蔡司之外，目前全球其他国家完全无法生产出满足EUV光刻机所需的物镜，包括我国在内也是一样的。
当然大家也不要妄自菲薄，实际上最近几年我国在物镜技术上也一直不断取得新的突破，之前市场就传出中科院出某所已经成功研发出波像差优于0.75nm RMS 的两镜EUV 光刻物镜系统，并构建了完整的EUV光刻曝光装置。
虽然这个物镜跟目前蔡司的0.12nm仍然有较大的差距,但至少已经逐渐缩小差距了，再配合其他工艺上的改进，说不定国产物镜也是能够用于EUV系统的。
毕竟因为光刻机并不是完全只有一条路可走，比如2023年有人就提出“光刻厂”的构想，这种构想是用加速器做一个巨大的光源，可以供28 nm、14 nm、7 nm、5 nm等多种芯片制程使用。
还有其他路线我相信我国也在尝试当中，最终找到一个适合我国高端半导体产业的路线，从而绕开欧美的限制。
我始终相信，国外限制越严，我国的技术越容易突破，从盾构机再到高铁再到其他尖端设备都已经不断证明了这个道理。
对于光刻机来说也是一样的，放在前几年，欧美根本不相信中国能够制造出DUV光刻机，但在去年工信部已经正式发布DUV光刻机的推广，说明目前我国DUV光刻机已经具备了量产的实力。
既然DUV光刻机都能够取得突破，那EUV光刻机还会远吗？我觉得是迟早会突破的，只是时间长短而已，而且5年内突破的概率还是相当大的。
