2025年第一季度，全球光刻机巨头ASML的客户版图发生剧烈震荡。ASML最新财报显示，韩国首次以40%的订单占比超越我国，成为ASML第一大客户。这一变化不仅折射出全球半导体产业格局的洗牌，更将国产光刻机产业链推至聚光灯下——曾经占据ASML营收半壁江山的中国市场，如今份额缩水至27%，背后的隐忧与突围同样值得深究。
一、韩国采购规模大增
韩国半导体产业的爆发性增长早有预兆，2024年，三星和SK海力士为争夺HBM3存储芯片市场主导权，已斥巨资采购ASML的High-NA EUV光刻机。这类设备单价高达3.5亿美元，单台价格抵得上我国一线城市的一套四合院，但韩国企业仍疯狂加单——仅2025年第一季度，韩国就从ASML提走23台High-NA EUV光刻机，占全球同期出货量的58%。
这种“军备竞赛”的逻辑很简单：谁先掌握3nm以下制程技术，谁就能在AI芯片、自动驾驶等新兴领域抢占高地。三星甚至喊出“2026年量产1.4nm芯片”的目标，为此不惜将全年研发预算的35%砸向光刻机采购。ASML的财报印证了这种趋势：韩国市场贡献的营收中，78%来自EUV光刻机订单，远高于全球平均的62%。
二、我国采购通道被限制，无法获得中高端光刻机
我国市场的份额下滑更值得警惕，2024年全年，我国内地仍以41%的占比稳居ASML第一大客户，但到第四季度骤降至27%，2025年第一季度进一步收缩至相同水平。这种断崖式下跌并非需求萎缩，实际情况是我国需要大量的中高端DUV光刻设备，更需要EUV光刻机。
核心矛盾在于采购渠道被系统性封锁，根据美方的出口管制清单，ASML被禁止向我国内地出售任何2000i及以上型号的DUV光刻机，更遑论EUV设备。这直接导致我国只能购买老旧的1980Di型号，其制程精度停留在45nm，而三星、台积电早已用着可生产7nm芯片的2050i型号。正因为如此，很多业内人士坦言：“我们现在买的ASML设备，性能比竞争对手落后两代。”
三、国产光刻机要加油了
市场份额的流失，反而倒逼我国光刻机产业链加速突围。近几年，上海微电子的光刻机技术不断突破；2025年3月，华为哈勃投资入股科益虹源，后者自主研发的40W准分子激光器成功打破美方Cymer的技术垄断.这些进展让国产光刻机技术不断提升，从而让我国自研成功了193nm的DUV光刻机。
但现实依然残酷，国产光刻机的量产精度还在在90nm以上的水准，与ASML的3nm差距明显；关键零部件如物镜系统、双工件台等，国产化率不足30%。更严峻的是，ASML正在通过“服务捆绑”巩固护城河——其驻日本维护团队计划在2025年扩张500%，辐射中韩市场的快速响应能力，这对尚处襁褓的国产设备商形成降维打击。
四、写在最后
ASML客户排名的更迭，本质上是一场全球科技话语权的博弈。韩国用真金白银堆出的40%份额，背后是财阀资本与国家意志的深度绑定；我国27%的占比背后，则是产业链自主化进程的阶段性困局。
这场较量没有中间路线，当ASML高管曾声称“我国永远造不出顶级光刻机”时，国产光刻机产业链的每一个突破都成为反击的筹码。从28nm到14nm，从DUV到EUV，每一步都是对封锁政策的强硬回应。或许正如业内人士所言：“今天少买的每一台ASML设备，都是在为明天的国产光刻机腾出市场空间。”
