俄罗斯正在悄悄研发自己的光刻机，目标是打破ASML的垄断，给半导体产业带来新生机！这可不是简单的模仿，而是希望在成本和灵活性上实现突破。想知道他们是如何计划一步步实现这个目标的？快来看看！

据俄罗斯媒体报道，俄罗斯正在开发自己的光刻机，计划用波长为11.2纳米的激光器来进行光刻，而ASML的光刻机使用的是13.5纳米的激光器。众所周知，ASML是全球唯一能够量产极紫外光刻机（EUV）的公司，其设备价格动辄上亿美元，而俄罗斯显然希望通过自给自足的方式来解决这一难题。

俄罗斯的光刻机研发工作是在2022年10月开始的，按照他们的计划，将会分为三个阶段来进行。第一阶段是研究和设计，第二阶段是高性能光刻原型的创建，第三阶段才是大规模的生产。

俄罗斯科学院微结构物理研究所（IPM RAS）的Nikolai Chkhalo表示，光刻机的实施将使俄罗斯在合理的时间内创建现代的纳米光刻装置。虽然现在还不清楚俄罗斯的光刻机会花费多少时间和金钱，但是他们的目标很明确，就是要制造出比ASML的系统更低成本、更复杂的设备。

这项技术的成功与否关乎着俄罗斯半导体产业能否翻身，因为目前他们的半导体产业几乎处于瘫痪状态，完全依赖进口。如果能够成功研发出光刻机，那么本土半导体产业将会迎来新的生机。

在此之前，俄罗斯已经有多家研究所和大学开始了光刻相关的研究，比如俄罗斯科学院应用物理研究所（RAS）就是其中之一，该所所长Alexander Fedorov曾表示，光刻机的激光功率预期为3.6千瓦，在分辨率上会低于ASML的设备2.7倍，但对于小市场来说已经足够了。

另外一个积极的消息是，新的设备可能会采用氙气源来替代锡激光等离子体源，这样做的好处是可以减少对光学元件的污染，同时也能延长掩模的使用寿命。

从材料上来看，我们已经看到了一些积极的信号，如果新设备能够顺利研发成功，那么或许可以用有机硅来作为光刻胶，而不是传统的无机硅。这一点上，我们还需要拭目以待。

值得一提的是，俄罗斯在高科技领域的研发能力正在逐步提升，以前人们可能对这个国家的高科技研发持怀疑态度，但是现在显然要改变这样的看法，根据Chkhala的说法，目前已经有很多投资和人才主动找上门来，希望能够参与到光刻机的研发当中。

有投资者表示，即便俄罗斯的设备没有ASML的那么强大，但是也许会成为中小型芯片制造商的福音，因为他们根本无法承受ASML设备上亿美金的价格，即便是买下这样的设备，他们也未必能够用得上，因为生产出来的芯片很可能还不够他们盈利。

而新设备采用新的波长进行光刻，有可能会带来更高的制造灵活性和成本效益，从而推动本土半导体产业的发展。正如Nikolai Chkhalo所说的那样，“复制ASML光刻机的尝试不会成功”，我们不能简单地用ASML的模式去研发自己的设备，因为这样很容易陷入死胡同。

从三步走计划来看，俄罗斯在研发自己的光刻机上还是比较稳健的，进行充分的研究和设计，这样在后面的原型制作和大规模生产阶段就能减少很多不必要的问题和错误，毕竟前车之鉴就在眼前。

俄罗斯这次的光刻机研发之路可谓是充满挑战，但如果成功了，势必会改变整个半导体行业的格局。毕竟，技术自给自足对于任何国家来说都是至关重要的。你觉得俄罗斯的这项计划能否成功？欢迎在评论区留言讨论，别忘了点赞支持哦！