中国宣布硅光子学方面取得突破这将无需EUV即可制造超级芯片

探索点小小科技 2024-10-12 02:11:18
中国宣布在硅光子学方面取得突破,这将无需 EUV 光刻技术即可制造超级芯片成为可能

中国宣布在用于半导体生产的硅光子学领域取得重大突破。武汉国立 JFS 实验室是国家光子学研究中心,首次成功地将激光光源与硅芯片耦合。据中国媒体报道,这一成就可以帮助该国克服芯片设计方面的现有技术壁垒,并在面对美国制裁时实现自给自足。

图片来源: Copilot

JFS 成立于 2021 年,得到 82 亿元人民币(12 亿美元)的政府支持,是中国致力于先进技术开发的重要机构之一。据 JFS 称,这项新技术使用光信号而不是电信号来传输数据,这使得克服传统芯片与电信号传输的物理限制相关的限制成为可能,并创造出更快、更强大的芯片来处理大数据、图形和人工智能。

对硅光子学的兴趣不仅在中国表现出来。全球半导体行业的主要参与者,如台积电、英伟达、英特尔和华为,也在大力投资这项技术的开发。国际半导体行业协会 SEMI 估计,到 2030 年,全球硅光子芯片市场将从 2022 年的 12.6 亿美元增加到 78.6 亿美元。台积电副总裁俞振华去年表示,“一个好的硅光集成系统可以解决AI时代能效和算力的关键问题,引领行业范式转变。

应该指出的是,硅光子学对中国具有特别的价值。与传统芯片不同,光子芯片的生产不需要高科技极紫外光刻 (EUV) 装置,这些装置受美国对中国出口的限制。“硅光子芯片可以在国内使用相对成熟的材料和设备生产,”总部位于北京的半导体初创公司 Sintone 的总裁隋军在 2022 年表示。

专家认为,硅光子学可能成为“美中技术竞争的新战线”。“虽然美国的出口管制可能会限制中国生产传统芯片的能力,但它也可能无意中激励中国将更多资源投入到新技术上,这些技术将在下一代半导体中发挥重要作用,”战略与国际研究中心 (CSIS) 前研究员马修·雷诺兹 (Matthew Reynolds) 写道。

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