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文/李鹏森
近几年来，中国在科技领域取得了长足的进步，C919大飞机订单在过去三年中狂飙至上千架，中国航母如期下水，055大驱也在量产中，歼-20在中国空军成功服役，使用了多年的 GPS也开始慢慢从中国市场退出，取而代之的是中国北斗。无论是空军、海军还是陆军，都有了令人惊叹的发展，这也意味着中国军事技术正在逐步成熟。那是否意味着中国不再需要依赖其他国家的技术援助了呢？回答仍然有些残酷，因为到目前为止，中国尚未完全突破其核心技术，仍然需要依靠西方的技术支持。
早些时候，德国联合日本和其他一些国家的科学家一起研制出了一颗球体，尽管说这颗球看起来没什么特别之处，但是它里面包含了无数尖端技术，而把中国搞得一败涂地的，就是这颗平平无奇的球。我相信很多人都在想，不就是一个球，为什么还要使用这么多尖端技术？
实际上，这个球体在制造过程中，需要使用多种超精密抛光技术，而我国目前的技术水平，还不能完全掌握。人们常常把磨削和抛光划上等号，但实质却不一样，所谓磨削，就是用机床或某些机械对物体表面进行精细加工，从而降低其表面粗糙度，而抛光就是在此基础上，利用化学或电化学作用进一步降低粗糙度。随著科技的发展，这种打磨工艺将会越来越高级，而且对表面粗糙度的精度要求也越来越高。
假如把打磨工艺比作摊大饼，那卡我们脖子的就是这个锅，别人的锅不粘锅底，我们现在做不到。“砂锅”实际上就是打磨机上的核心部件——砂轮。
高精度抛光对磨盘有近乎苛刻的要求，这种由特殊材料制成的钢盘在工作时，不仅要满足纳米级精度，而且要有精确的热胀冷缩系数，当抛光机高速运转时，磨盘会出现发热现象，从而产生热变形。这时的磨盘平面精度不能满足要求，被加工材料器件也会出现变形问题。
现行技术一般都把研磨和抛光归为一类，实际上两者有很大区别，研磨是用仪器对物体表面进行加工，抛光是利用机械化学或电化学作用，使物体表面的粗糙度进一步降低。
随着工业的发展，对材料的尺寸和精度的要求也越来越严格。拿晶片来说，一片只有1毫米厚的晶片上面需要放上几十万个集成电路，这些旧的工艺根本无法满足要求，只能靠超精密的工艺来完成抛光工作，而这正是晶片制造中最关键的环节。
在一般情况下，我们所用的研磨技术，就是用一定的机床和设备来加工和制造其他东西，这样制成的东西的表面粗糙度为0.63-0.01微米，在我们看来，这已经很精密了，然后用打磨的方法来打磨，让它的粗糙度再小一点。当时，大家普遍使用的是物理抛光，直到现在才开始研究出机械、化学或电化学抛光技术。
怎样打磨一块纳米级的晶片是我们真正要研究的超精密抛光技术，现在美国、日本等国家已经能够达到纳米级的精度要求，而我国还处于起步阶段。我国进行了数十年的研究，仍未达到理想的要求。现在我们国家所有的超精密设备都是从美国进口的，一台要几千万人民币，而如果美国一个不愿意，就会面临断供，一旦设备断供，那么在电子、航空航天等尖端领域，我们就会被美国掐住脖子。
国内目前这项技术在国内尚处于起步阶段，从开始到现在已整整8年。其实这项技术的原理和当年的钢笔头技术差不多，我国也是花了6年时间才突破这项技术。因此，请耐心等待来自研发人员的好消息。
